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專利名稱:
突發式光模塊用淺溝柵狀背光探測器及其制作方法
專利類型:
發明
申請號:
CN201210573786.7
公開(公告)號:
CN103050565B
申請日:
20121226
公開(公告)日:
20160504
申請人:
華工科技產業股份有限公司
發明人:
丁國慶,唐琦,胡長飛
申請人地址:
430223 湖北省武漢市洪山區珞瑜路243號華工科技產業大廈A座12樓
申請人區域代碼:
CN420111
專利權人:
華工科技產業股份有限公司
洛迦諾分類:
無
IPC:
H01L31/109,H01L31/18
優先權:
無
專利代理機構:
北京匯澤知識產權代理有限公司 11228
代理人:
朱振德
審查員:
張玉萍
國際申請:
無
國際公開(公告):
無
進入國家日期:
無
分案申請:
無
關鍵詞
淺溝,金屬電極,刻蝕區,背光探測器,電接觸層,光吸收層,覆蓋層,柵狀,氫離子,非故意摻雜,高濃度摻雜,光脈沖信號,金屬擋光層,氫離子注入,開啟延遲,中等濃度,設有,摻雜的,電脈沖,高阻區,隔離區,光敏區,光模塊,過渡層,緩沖層,面積和,突發式,高阻,減小,拖尾,一種,底部,下方,外圍,包圍,減少,有效
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