著錄信息
- 專利名稱:用于三甲基鋁中微量雜質分析的三甲基鋁HCl分解裝置
- 專利類型:發明
- 申請號:CN201110042616.1
- 公開(公告)號:CN102103049B
- 申請日:20110222
- 公開(公告)日:20130109
- 申請人:江蘇南大光電材料股份有限公司
- 發明人:孫明璐,潘興華,邱良德,徐春菊,王佳銘,呂寶源
- 申請人地址:215021 江蘇省蘇州市工業園區金雞湖大道1355號國際科技園
- 申請人區域代碼:CN320506
- 專利權人:江蘇南大光電材料股份有限公司
- 洛迦諾分類:無
- IPC:G01N1/28
- 優先權:無
- 專利代理機構:南京蘇科專利代理有限責任公司 32102
- 代理人:王玉國;陳忠輝
- 審查員:姚正陽
- 國際申請:無
- 國際公開(公告):無
- 進入國家日期:無
- 分案申請:無
關鍵詞
氣體發生裝置,濃硫酸,分解,連通,三甲基鋁,緩沖,干燥,氮氣保護裝置,微量雜質分析,樣品分析結果,分解裝置,分液漏斗,連通樣品,溶液吸收,氧化分解,取樣瓶,溶性,連接,分析
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