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專利名稱：用于三甲基鋁中微量雜質分析的三甲基鋁HCl分解裝置
專利類型：發明
申請號：CN201110042616.1
公開(公告)號：CN102103049B
申請日：20110222
公開(公告)日：20130109
申請人：江蘇南大光電材料股份有限公司
發明人：孫明璐,潘興華,邱良德,徐春菊,王佳銘,呂寶源
申請人地址：215021 江蘇省蘇州市工業園區金雞湖大道1355號國際科技園
申請人區域代碼：CN320506
專利權人：江蘇南大光電材料股份有限公司
洛迦諾分類：無
IPC：G01N1/28
優先權：無
專利代理機構：南京蘇科專利代理有限責任公司 32102
代理人：王玉國;陳忠輝
審查員：姚正陽
國際申請：無
國際公開(公告)：無
進入國家日期：無
分案申請：無

關(guan)鍵詞

氣體發生裝置,濃硫酸,分解,連通,三甲基鋁,緩沖,干燥,氮氣保護裝置,微量雜質分析,樣品分析結果,分解裝置,分液漏斗,連通樣品,溶液吸收,氧化分解,取樣瓶,溶性,連接,分析

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