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  • 專利名稱:一種GaN基發光二極管芯片的制備方法
  • 專利類型:發明
  • 申請號:CN201410594339.9
  • 公開(公告)號:CN104300048B
  • 申請日:20141029
  • 公開(公告)日:20170215
  • 申請人:山東浪潮華光光電子股份有限公司
  • 發明人:劉巖,馬玉玲,彭璐,徐現剛
  • 申請人地址:261061 山東省濰坊市高新區金馬路9號
  • 申請人區域代碼:CN370705
  • 專利權人:山東浪潮華光光電子股份有限公司
  • 洛迦諾分類:
  • IPC:H01L33/02
  • 優先權:
  • 專利代理機構:濟南日新專利代理事務所 37224
  • 代理人:王書剛
  • 審查員:劉天飛
  • 國際申請:
  • 國際公開(公告):
  • 進入國家日期:
  • 分案申請:

關鍵詞

光刻膠,去除,制備,干法刻蝕,芯片表面,刻蝕,殘留,等離子體去除,生產周期,表面殘留,表面生長,刻蝕氣體,工藝流程,鈍化層,面結構,芯片,制作,保證
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