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  • 專利名稱:一種晶片磨削廢水COD臭氧降解裝置
  • 專利類型:實用新型
  • 申請號:CN201620121534.4
  • 公開(公告)號:CN205556200U
  • 申請日:20160216
  • 公開(公告)日:20160907
  • 申請人:山東浪潮華光光電子股份有限公司
  • 發明人:王強,任忠祥,李香芝,徐現剛
  • 申請人地址:261061 山東省濰坊市高新區金馬路9號
  • 申請人區域代碼:CN370705
  • 專利權人:山東浪潮華光光電子股份有限公司
  • 洛迦諾分類:
  • IPC:C02F1/78
  • 優先權:
  • 專利代理機構:濟南日新專利代理事務所 37224
  • 代理人:王書剛
  • 審查員:
  • 國際申請:
  • 國際公開(公告):
  • 進入國家日期:
  • 分案申請:

關鍵詞

處理槽,廢水,臭氧發生器,臭氧輸入管,有機物,微孔曝氣盤,氧化降解,臭氧,環境無污染,尾氣排放管,污水排放管,臭氧降解,分散氣泡,晶片磨削,污水進管,有效降解,廢水COD,二氧化碳,磨削,氣源,伸入,種晶,沉淀,過濾
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