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著錄信息

  • 專利名稱：一種磁控濺射圓柱靶
  • 專利類型：實用新型
  • 申請號：CN201120528071.0
  • 公開(公告)號：CN202543309U
  • 申請日：20111216
  • 公開(公告)日：20121121
  • 申請人：山東桑樂太陽能有限公司
  • 發明人：于洪文,馬兵,張艷麗,安利娟,李春江,何曉倩,李寶山,陳志朋,李萍
  • 申請人地址：250014 山東省濟南市歷下區科院路19號
  • 申請人區域代碼：CN370102
  • 專利權人：山東桑樂太陽能有限公司
  • 洛迦諾分類：無
  • IPC：C23C14/35
  • 優先權：無
  • 專利代理機構：濟南誠智商標專利事務所有限公司 37105
  • 代理人：王汝銀
  • 審查員：無
  • 國際申請：無
  • 國際公開(公告)：無
  • 進入國家日期：無
  • 分案申請：無

關鍵詞

磁極,條形磁鐵,靶材,磁條,磁控濺射圓柱靶,等離子體區域,奇數,薄膜制備,冷卻水流,相鄰凹槽,磁鐵,濺射,軸向,排列,浪費
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