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著(zhu)錄信息(xi)

專利名稱：一種磁控濺射圓柱靶
專利類型：實用新型
申請號：CN201120528071.0
公開(公告)號：CN202543309U
申請日：20111216
公開(公告)日：20121121
申請人：山東桑樂太陽能有限公司
發明人：于洪文,馬兵,張艷麗,安利娟,李春江,何曉倩,李寶山,陳志朋,李萍
申請人地址：250014 山東省濟南市歷下區科院路19號
申請人區域代碼：CN370102
專利權人：山東桑樂太陽能有限公司
洛迦諾分類：無
IPC：C23C14/35
優先權：無
專利代理機構：濟南誠智商標專利事務所有限公司 37105
代理人：王汝銀
審查員：無
國際申請：無
國際公開(公告)：無
進入國家日期：無
分案申請：無

關鍵詞(ci)

磁極,條形磁鐵,靶材,磁條,磁控濺射圓柱靶,等離子體區域,奇數,薄膜制備,冷卻水流,相鄰凹槽,磁鐵,濺射,軸向,排列,浪費

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