著錄信息
- 專利名稱:一種在樹脂基片使用磁控濺射制備ITO膜的方法
- 專利類型:發明
- 申請號:CN201110295242.4
- 公開(公告)號:CN102312208B
- 申請日:20110930
- 公開(公告)日:20121219
- 申請人:蕪湖長信科技股份有限公司
- 發明人:許沭華,夏大映,張兵,何晏兵,孔德興,康傲飛
- 申請人地址:安徽省蕪湖市經濟技術開發區汽經二路以東
- 申請人區域代碼:CN340207
- 專利權人:蕪湖長信科技股份有限公司
- 洛迦諾分類:無
- IPC:C23C14/35,C23C14/06
- 優先權:無
- 專利代理機構:蕪湖安匯知識產權代理有限公司 34107
- 代理人:張小虹
- 審查員:趙妍妍
- 國際申請:無
- 國際公開(公告):無
- 進入國家日期:無
- 分案申請:無
關鍵詞
樹脂基片,磁控濺射,電阻率,運送,冷卻,磁控濺射設備,化學穩定性,陰極直流電,高透過率,基片加熱,抽真空,垂直式,電阻值,加熱室,濺射室,均勻性,冷卻室,膜沉積,電阻,鍍膜,濺射,卸載,密封,裝載
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