著錄信息
- 專利名稱:旋轉式磁控靶及臥式磁控濺射鍍膜設備
- 專利類型:實用新型
- 申請號:CN201620688645.3
- 公開(公告)號:CN205907351U
- 申請日:20160630
- 公開(公告)日:20170125
- 申請人:肇慶市科潤真空設備有限公司
- 發明人:朱建明,李金清,張閏華
- 申請人地址:526060 廣東省肇慶市端州大道
- 申請人區域代碼:CN441202
- 專利權人:肇慶市科潤真空設備有限公司
- 洛迦諾分類:無
- IPC:C23C14/35
- 優先權:無
- 專利代理機構:廣州市華學知識產權代理有限公司 44245
- 代理人:謝靜娜;裘暉
- 審查員:無
- 國際申請:無
- 國際公開(公告):無
- 進入國家日期:無
- 分案申請:無
關鍵詞
旋轉式磁控靶,靶材,磁控濺射鍍膜設備,鍍膜室,磁鐵,鍍膜效率,預抽室,磁芯,粗抽,精抽,磁力線,生產周期,本實用新型,靶材表面,磁鐵末端,磁芯外周,工件表面,前緩沖室,生產效率,依次連接,工藝線,緩沖室,濺射,粒子,應用
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