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著錄信息

  • 專利名稱:旋轉式磁控靶及臥式磁控濺射鍍膜設備
  • 專利類型:實用新型
  • 申請號:CN201620688645.3
  • 公開(公告)號:CN205907351U
  • 申請日:20160630
  • 公開(公告)日:20170125
  • 申請人:肇慶市科潤真空設備有限公司
  • 發明人:朱建明,李金清,張閏華
  • 申請人地址:526060 廣東省肇慶市端州大道
  • 申請人區域代碼:CN441202
  • 專利權人:肇慶市科潤真空設備有限公司
  • 洛迦諾分類:
  • IPC:C23C14/35
  • 優先權:
  • 專利代理機構:廣州市華學知識產權代理有限公司 44245
  • 代理人:謝靜娜;裘暉
  • 審查員:
  • 國際申請:
  • 國際公開(公告):
  • 進入國家日期:
  • 分案申請:

關鍵詞

旋轉式磁控靶,靶材,磁控濺射鍍膜設備,鍍膜室,磁鐵,鍍膜效率,預抽室,磁芯,粗抽,精抽,磁力線,生產周期,本實用新型,靶材表面,磁鐵末端,磁芯外周,工件表面,前緩沖室,生產效率,依次連接,工藝線,緩沖室,濺射,粒子,應用
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