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著錄信息

  • 專利名稱:一種半導體晶圓片清洗液生成裝置
  • 專利類型:實用新型
  • 申請號:CN201120550148.4
  • 公開(公告)號:CN202460570U
  • 申請日:20111226
  • 公開(公告)日:20121003
  • 申請人:無錫華潤華晶微電子有限公司
  • 發明人:吳學成,徐雪舟,劉群
  • 申請人地址:214028 江蘇省無錫市國家高新技術產業開發區信息產業科技園C座2樓
  • 申請人區域代碼:CN320211
  • 專利權人:無錫華潤華晶微電子有限公司
  • 洛迦諾分類:
  • IPC:B01F15/04,B01F3/08,B08B3/10
  • 優先權:
  • 專利代理機構:中國專利代理(香港)有限公司 72001
  • 代理人:臧霽晨;盧江
  • 審查員:
  • 國際申請:
  • 國際公開(公告):
  • 進入國家日期:
  • 分案申請:

關鍵詞

混合桶,半導體晶圓片,液位傳感器,清洗液,檢測試劑,流體,液位,連通,配備
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