著錄信息
- 專利名稱:一種半導體晶圓片清洗液生成裝置
- 專利類型:實用新型
- 申請號:CN201120550148.4
- 公開(公告)號:CN202460570U
- 申請日:20111226
- 公開(公告)日:20121003
- 申請人:無錫華潤華晶微電子有限公司
- 發明人:吳學成,徐雪舟,劉群
- 申請人地址:214028 江蘇省無錫市國家高新技術產業開發區信息產業科技園C座2樓
- 申請人區域代碼:CN320211
- 專利權人:無錫華潤華晶微電子有限公司
- 洛迦諾分類:無
- IPC:B01F15/04,B01F3/08,B08B3/10
- 優先權:無
- 專利代理機構:中國專利代理(香港)有限公司 72001
- 代理人:臧霽晨;盧江
- 審查員:無
- 國際申請:無
- 國際公開(公告):無
- 進入國家日期:無
- 分案申請:無
關鍵詞
混合桶,半導體晶圓片,液位傳感器,清洗液,檢測試劑,流體,液位,連通,配備
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