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專利名稱:
用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置
專利類型:
實用新型
申請號:
CN200920199932.8
公開(公告)號:
CN201524643U
申請日:
20091116
公開(公告)日:
20100714
申請人:
浙江道明光學股份有限公司
發明人:
胡智雄,胡智彪,王嘉偉
申請人地址:
321300 浙江省永康市象珠三號工業區001號
申請人區域代碼:
CN330784
專利權人:
浙江道明光學股份有限公司
洛迦諾分類:
無
IPC:
B05C1/08,B05C11/02,B05C11/04,G02B1/10
優先權:
無
專利代理機構:
杭州之江專利事務所 33216
代理人:
張費微
審查員:
無
國際申請:
無
國際公開(公告):
無
進入國家日期:
無
分案申請:
無
關鍵詞
光敏,上料,涂覆,薄膜,涂覆量,棱鏡陣列,涂層厚度,涂覆裝置,反光膜,包覆
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