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  • 專利名稱:印章(半孔)
  • 專利類型:外觀設計
  • 申請號:CN201430348162.5
  • 公開(公告)號:CN303114230S
  • 申請日:20140919
  • 公開(公告)日:20150225
  • 申請人:西泠印社集團有限公司
  • 發明人:應頡
  • 申請人地址:310000 浙江省杭州市下城區西湖文化廣場32號5樓
  • 申請人區域代碼:CN330103
  • 專利權人:西泠印社集團有限公司
  • 洛迦諾分類:19-02
  • IPC:
  • 優先權:
  • 專利代理機構:杭州天欣專利事務所(普通合伙) 33209
  • 代理人:張狄峰
  • 審查員:
  • 國際申請:
  • 國際公開(公告):
  • 進入國家日期:
  • 分案申請:

摘要

1.本外觀設計產品的名稱:印章(半孔)。 2.本外觀設計產品的用途:作為印章使用。 3.本外觀設計的設計要點:在于設計1和設計2的整體形狀,設計1與設計2為相似設計,其中設計1為基本設計。 4.最能表明設計要點的圖片或者照片:設計1主視圖。 5.設計1后視圖與設計1主視圖對稱,設計2后視圖與設計2主視圖對稱,設計1右視圖與設計1左視圖對稱,設計2右視圖與設計2左視圖對稱,故省略設計1后視圖、設計2后視圖、設計1右視圖和設計2右視圖。
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