一、什么是特種工業氣體
特(te)(te)種(zhong)氣(qi)(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)(Specialty gases):指(zhi)那些在特(te)(te)定領(ling)域(yu)中應用的(de),對氣(qi)(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)有(you)特(te)(te)殊要求的(de)純氣(qi)(qi)(qi)(qi)、高純氣(qi)(qi)(qi)(qi)或由(you)高純單(dan)質氣(qi)(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)配制的(de)二元或多元混合氣(qi)(qi)(qi)(qi)。特(te)(te)種(zhong)氣(qi)(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)是工業氣(qi)(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)中的(de)一個(ge)新興門類,是隨著近(jin)年來國防(fang)工業、科學研究、自動(dong)化技(ji)術、精密檢測(ce),特(te)(te)別是微電(dian)子(zi)(zi)技(ji)術的(de)發展而發展起來的(de)。特(te)(te)種(zhong)氣(qi)(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)從(cong)應用領(ling)域(yu)上分為(wei):電(dian)子(zi)(zi)氣(qi)(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)、高純氣(qi)(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)、標準氣(qi)(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)。廣泛用于電(dian)子(zi)(zi)、電(dian)力、石油化工、采礦、鋼(gang)鐵(tie)、有(you)色(se)金屬冶煉、熱力工程、生化、環境監測(ce)、醫(yi)學研究及診(zhen)斷、食品(pin)保鮮等領(ling)域(yu)。
二、特種氣體有哪些
近年來(lai),隨著下游應用(yong)領域的(de)逐步擴展,特(te)種(zhong)(zhong)氣(qi)體(ti)(ti)的(de)品種(zhong)(zhong)也與日俱增,據不完全統計,現(xian)有單(dan)(dan)元特(te)種(zhong)(zhong)氣(qi)體(ti)(ti)達260種(zhong)(zhong)左右,特(te)種(zhong)(zhong)氣(qi)體(ti)(ti)已成為高科技應用(yong)領域不可缺少的(de)基本原(yuan)料(liao)。特(te)種(zhong)(zhong)單(dan)(dan)一氣(qi)體(ti)(ti)有260種(zhong)(zhong),其中電子(zi)氣(qi)體(ti)(ti)114種(zhong)(zhong)(實(shi)際常用(yong)的(de)約44種(zhong)(zhong)),有機氣(qi)體(ti)(ti)65種(zhong)(zhong),無機氣(qi)體(ti)(ti)35種(zhong)(zhong),鹵(lu)碳素氣(qi)體(ti)(ti)29種(zhong)(zhong),同位(wei)素氣(qi)體(ti)(ti)17種(zhong)(zhong)。
三、260種單元特種氣體的用途
1、氮氣(qi)-N2,純度要(yao)求>99.999%,用(yong)作(zuo)標(biao)準(zhun)(zhun)氣(qi)、在線儀表(biao)標(biao)準(zhun)(zhun)氣(qi)、校正(zheng)氣(qi)、零點(dian)氣(qi)、平衡(heng)氣(qi);用(yong)于半導體器件制備(bei)工藝中外延、擴散、化(hua)學氣(qi)相淀(dian)積、離(li)子(zi)注入(ru)、等(deng)(deng)離(li)子(zi)干刻(ke)、光刻(ke)、退(tui)火、搭接(jie)、燒結等(deng)(deng)工序;電器、食品包(bao)裝、化(hua)學等(deng)(deng)工業也(ye)要(yao)用(yong)氮氣(qi)。
2、氧氣(qi)(qi)-O2,>99.995%,用(yong)(yong)作(zuo)標準(zhun)氣(qi)(qi)在(zai)線儀表(biao)標準(zhun)氣(qi)(qi)、校(xiao)正氣(qi)(qi)、零點氣(qi)(qi);還(huan)可(ke)用(yong)(yong)于(yu)(yu)醫療氣(qi)(qi);在(zai)半導體器件(jian)制備工(gong)藝(yi)中用(yong)(yong)于(yu)(yu)熱氧化、擴散、化學氣(qi)(qi)相淀積(ji)、等離子干刻等工(gong)序;以及用(yong)(yong)于(yu)(yu)光導纖維的制備。
3、氬氣(qi)(qi)(qi)(qi)-Ar,>99.999,用作標準氣(qi)(qi)(qi)(qi)、零點氣(qi)(qi)(qi)(qi)、平衡氣(qi)(qi)(qi)(qi);用于半導體器件(jian)制備工(gong)藝(yi)中晶體生長、熱氧化(hua)、外(wai)延(yan)、擴(kuo)散(san)、氮化(hua)、噴射(she)、等離子干刻、載(zai)流、退火(huo)、搭接、燒結等工(gong)序;特(te)種混合(he)氣(qi)(qi)(qi)(qi)與工(gong)業混合(he)氣(qi)(qi)(qi)(qi)也使用氫(qing)。
4、氫氣(qi)(qi)-H2,>99.999%,用(yong)作標(biao)準氣(qi)(qi)、零點氣(qi)(qi)、平衡(heng)氣(qi)(qi)、校正(zheng)氣(qi)(qi)、在(zai)線儀表標(biao)準氣(qi)(qi);在(zai)半導(dao)體器(qi)件制備工(gong)藝中用(yong)于晶(jing)休(xiu)生長、熱氧(yang)化(hua)、外延、擴散、多晶(jing)硅、鎢化(hua)、離子注(zhu)入、載流(liu)、燒結等工(gong)序;在(zai)化(hua)學、冶金等工(gong)業中也有用(yong)。
5、氦氣(qi)-He,>99.999%,用作標準氣(qi)、零點氣(qi)、平衡氣(qi)、校正氣(qi)、醫療氣(qi);于(yu)半導體器件制(zhi)備工藝中晶(jing)體生長、等離(li)子干刻、載流等工序;另外(wai),特(te)種混(hun)合氣(qi)與工業混(hun)合氣(qi)也常(chang)用。
6、氯氣(qi)-Cl2,>99.96%,用作標準(zhun)氣(qi)、校正氣(qi);用于半導體器件制備(bei)工(gong)藝中晶體生長、等(deng)離子干刻、熱(re)氧化(hua)等(deng)工(gong)序;另(ling)外,用于水凈(jing)化(hua)、紙(zhi)漿與紡織品(pin)的漂白、下業廢品(pin)、污水、游泳池的衛(wei)生處理;制備(bei)許多(duo)化(hua)學產品(pin)。
7、氟(fu)氣-F2,>98%,用(yong)(yong)于半導體器件制備工藝中等(deng)離子干刻;另外,用(yong)(yong)于制備六(liu)氟(fu)化鈾、六(liu)氟(fu)化硫、三氟(fu)化硼和金屬氟(fu)化物等(deng)。
8、氨氣(qi)-NH3,>99.995%,用作標(biao)準(zhun)氣(qi)、校正氣(qi)、在線(xian)儀表標(biao)準(zhun)氣(qi);用于半導體器件制備(bei)工(gong)(gong)藝(yi)中氮化工(gong)(gong)序;另外(wai),用于制冷、化肥、石油、采礦、橡膠等工(gong)(gong)業。
9、氯(lv)(lv)化(hua)氫-HCI,>99.995%,用(yong)作標(biao)準氣;用(yong)于(yu)半導(dao)體(ti)器件制(zhi)備工藝中(zhong)外延(yan)、熱氧(yang)化(hua)、擴散等工序;另外,用(yong)于(yu)橡(xiang)膠氯(lv)(lv)氫化(hua)反應中(zhong)的化(hua)學中(zhong)間(jian)體(ti)、生產乙烯基(ji)和烷基(ji)氯(lv)(lv)化(hua)物時起氧(yang)氯(lv)(lv)化(hua)作用(yong)。
10、一氧化(hua)氮-NO,>99%,用(yong)作標準氣、校正氣;用(yong)于半導體器件制備(bei)工(gong)藝中(zhong)化(hua)學氣相淀(dian)積主序(xu);制備(bei)監控(kong)大氣污染的(de)標準混(hun)合氣。
11、二氧化(hua)碳(tan)-CO2,>99.99%,用(yong)作(zuo)標準氣(qi)(qi)(qi)、在線儀表(biao)標推(tui)氣(qi)(qi)(qi)、校正(zheng)氣(qi)(qi)(qi);于(yu)半導體器件制備(bei)工藝中氧化(hua)、載流工序警(jing)另(ling)外(wai),還用(yong)于(yu)特種(zhong)混合(he)氣(qi)(qi)(qi)、發(fa)電、氣(qi)(qi)(qi)體置換處理、殺菌(jun)氣(qi)(qi)(qi)體稀釋(shi)劑、滅火劑、食品冷(leng)凍、金屬(shu)冷(leng)處理、飲料充(chong)氣(qi)(qi)(qi)、煙(yan)霧噴(pen)射劑、食品貯存保護氣(qi)(qi)(qi)等。
12、氧化亞(ya)氮-N2O,(即笑氣),>99.999%,用(yong)作標(biao)準(zhun)氣、醫療(liao)氣;用(yong)于半導體器件制(zhi)備工(gong)藝中(zhong)化學氣相(xiang)淀積、醫月麻醉劑、煙霧(wu)噴射劑、真空和帶壓檢(jian)漏;紅外光譜分析儀等(deng)也用(yong)。
13、硫化(hua)(hua)氫-H2S,>99.999%,用作標準氣、校正氣;用于半導體器件制備工(gong)藝中(zhong)等(deng)離子干(gan)刻(ke),化(hua)(hua)學(xue)工(gong)業中(zhong)用于制備硫化(hua)(hua)物,如(ru)硫化(hua)(hua)鈉,硫化(hua)(hua)有機(ji)物;用作溶劑(ji);實驗室(shi)定(ding)量分(fen)析用。
14、四氯(lv)化(hua)碳-CCl4,>99.99%,用(yong)作(zuo)標準(zhun)氣(qi);用(yong)于半導體器件制備工藝中外延丫、化(hua)學氣(qi)相淀積等工序;另外,用(yong)作(zuo)溶劑(ji)、有機物的氯(lv)化(hua)劑(ji)、香料的浸出劑(ji)、纖維的脫脂劑(ji)、滅(mie)火劑(ji)、分析試劑(ji)、制備氯(lv)仿(fang)和藥物等。
15、氰化氫(qing)-HCN,>99.9,用(yong)于半導體器件制(zhi)備(bei)工藝(yi)中等(deng)離子干(gan)刻工序;制(zhi)備(bei)氫(qing)氰酸溶液,金屬氰化物(wu)(wu)、氰氯化物(wu)(wu);也用(yong)于制(zhi)備(bei)丙(bing)烯(xi)睛和丙(bing)烯(xi)衍生(sheng)物(wu)(wu)的(de)合成中間體。
16、碳酰氟-COF2,>99.99%,用于半(ban)尋體器(qi)件制(zhi)備工(gong)藝(yi)中(zhong)等離(li)子干(gan)刻工(gong)序;另(ling)外(wai),用作氟化劑。
17、碳(tan)酰硫-COS,>99.99%,用(yong)(yong)作校正(zheng)氣(qi);用(yong)(yong)于(yu)半導體器件(jian)制備工(gong)藝(yi)中(zhong)離子注入工(gong)序;也用(yong)(yong)于(yu)有些羧基、硫代(dai)酸(suan)、硫代(dai)碳(tan)酸(suan)鹽和噻(sai)唑的合成。
18、碘化(hua)氫-HI,>99.95%,用(yong)于半導體器件制備(bei)(bei)工藝中離子(zi)注(zhu)入(ru)工序;還用(yong)于氫碘酸溶(rong)液制備(bei)(bei)。
19、嗅(xiu)化(hua)氫-HBr,>99.9%,用(yong)于半(ban)導體制(zhi)備工(gong)藝中等(deng)離子干刻工(gong)序;用(yong)作還原劑,制(zhi)備有(you)機及(ji)無(wu)機澳化(hua)合物(wu)。
20、硅(gui)烷-SiH4,>99.999%,電阻率>100Ω/cm2,用于(yu)半(ban)導體(ti)器(qi)件制(zhi)備工(gong)藝中外延、化學(xue)氣相(xiang)淀(dian)積等工(gong)序。
21、乙硅烷-Si2H6,>99.9%,用(yong)于半導體制備(bei)工藝中化學氣相(xiang)淀積。
22、磷(lin)烷-PH3,>99.999%,用于(yu)半(ban)導體(ti)(ti)器(qi)件制(zhi)備(bei)工(gong)(gong)藝中外(wai)延、擴散(san)、化(hua)學氣相淀積(ji)、離子(zi)注入等工(gong)(gong)序(xu);磷(lin)烷與二氧(yang)化(hua)碳(tan)混合的低濃度氣體(ti)(ti),可(ke)用于(yu)殺(sha)死糧倉(cang)的蟲卵和制(zhi)備(bei)阻(zu)火化(hua)合物(wu)。
23、砷烷-AsH3,>99.999%,用于半導(dao)體器件制備(bei)工(gong)藝中外延、擴散、化學(xue)氣相淀積、離子注入等工(gong)序。
24、硼烷-B2H6,>99.995%,用于半(ban)導體器件制備工(gong)藝中外(wai)延、擴(kuo)散、氧化(hua)等工(gong)序;用于有些化(hua)學工(gong)業合(he)成過程:如氫硼化(hua)反應(即(ji)生成醇類),有機功能的(de)衰(shuai)退(tui),制備較高(gao)的(de)硼烷衍生物和(he)碳甲硼烷化(hua)合(he)物。
25、鍺烷(wan)-GeH4,>99.999%,用于半導體(ti)器件制備工(gong)藝中外延(yan)、離子注(zhu)入工(gong)序(xu)。
26、銻烷(wan)-SbH3,>99.999%,用于半導體器件(jian)制備工藝中(zhong)外延(yan)、離(li)子注(zhu)入工序(xu)。
27、四氧(yang)甲硅烷-Si(OC2H5)4,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中(zhong)化學氣相淀積工序(xu)。
28、乙(yi)烷-C2H6,>99.99%,用作標準氣、校正氣、在線(xian)儀(yi)表標準氣;用于半(ban)導(dao)體器件制(zhi)備工(gong)(gong)藝中等離子干刻工(gong)(gong)序;還用于冶(ye)金工(gong)(gong)業的熱(re)處理(li),化學工(gong)(gong)業中制(zhi)備乙(yi)醇(chun)(chun)、氧(yang)化乙(yi)二醇(chun)(chun)、氯乙(yi)烯、高醇(chun)(chun)類、乙(yi)醛等。
29、丙烷(wan)-C3H8,>99.99%,用(yong)(yong)作標準(zhun)氣(qi)、校正氣(qi)、在線儀表標準(zhun)氣(qi);用(yong)(yong)于(yu)半(ban)導體器件制(zhi)備工(gong)(gong)藝中(zhong)等(deng)離子干刻工(gong)(gong)序;另外,用(yong)(yong)于(yu)燃料(liao)(liao)、冷(leng)凍劑、制(zhi)備乙(yi)烯與丙烯的原料(liao)(liao)。
30、硒化氫-H2Se,>99.999%,用(yong)于半導體器件制備工(gong)(gong)藝中擴散、離子注入工(gong)(gong)序。
31、碲化氫(qing)-H2Te,>99.999%,用(yong)于半導體器(qi)件制備工藝中擴散、離子注入工序。
32、二氯二氫(qing)硅-SiH2Cl2,>99.999%,用于(yu)半導體(ti)器(qi)件制備工藝(yi)中外延、化(hua)學氣相(xiang)淀積(ji)工序。
33、三(san)氯(lv)氫硅-SiHCl3,>99.999%,用于半導體器件制備工(gong)藝中外延、化學氣相淀積(ji)工(gong)序。
34、二甲基(ji)碲-(CH3)2Te,>99.999%,用于(yu)半導體器件制備工(gong)藝中(zhong)擴(kuo)散、離(li)子注入工(gong)序。
35、二乙基(ji)碲-(C2H5)2Te,>99.999%,用途同(34)。
36、二甲基(ji)鋅(CH5)2Zn,>99.999%,用于半導體器件制(zhi)備工藝中化學氣相淀積工序。
37、二乙基鋅(C2H5)2Zn,>99.999%,用途同(36)。
38、三氯化磷(lin)-PCl3,>99.99%,用(yong)于半導體器件制備(bei)工藝中擴(kuo)散,鍺的外延生長和離子注入工藝;PCl3是有機(ji)物(wu)的良好(hao)氯化劑;也(ye)用(yong)于含磷(lin)有機(ji)物(wu)的合(he)成。
39、三氯化砷-AsCl3,>99.99%,用于(yu)半導體(ti)器件(jian)制備工藝中的外(wai)延和離(li)子注入。
40、三(san)氯(lv)化(hua)(hua)硼(peng)-BCl3,>99.99%,用于等離(li)子(zi)干(gan)刻、擴散;作硼(peng)載氣(qi)及一些有機反應的催化(hua)(hua)劑;精煉鎂(mei)、鋅、鋁、銅合金時從溶化(hua)(hua)金屬中除掉氮、碳、氧化(hua)(hua)合物。
41、四(si)氯(lv)化硅-SiCl4,>99.999%,用于半導體器件(jian)制備工(gong)藝中(zhong)外延、化學氣相淀積(ji)工(gong)序。
42、四(si)氯化錫-SnCl4,>99.99%,用于外(wai)延、離(li)子注入。
43、四(si)氯化(hua)鍺-GeCl4,>99.999%,用于離子注入。
44、四(si)氯化欽-TiCl4,>99.99%,用于等(deng)離子(zi)干刻。
45、五氯化磷(lin)-PCl5,>99.99%,用于(yu)外延、離子注入。
46、五氯化(hua)銻-Sb=Cl5,>99.99%,用(yong)于外(wai)延、離子注入。
47、六(liu)氯化(hua)鑰-MoCl6,>99.9%,用于化(hua)學氣相(xiang)淀積。
48、三嗅化硼-BBr3,>99.99%,用于半導體器件制(zhi)備工(gong)藝(yi)中離子注入工(gong)序和(he)制(zhi)備光(guang)導纖維。
49、三嗅(xiu)化磷-PBr3,>99.99%,用(yong)于外延(yan)、離子(zi)注入(ru)。
50、磷酞(tai)氯-POCI3,>99.999%,用于擴(kuo)散工序(xu)。
51、三氟化(hua)(hua)硼-BF3,>99.99%,用(yong)于(yu)離子注(zhu)入;另外,可作(zuo)載氣(qi)、某些(xie)有機反應的催化(hua)(hua)劑;精煉鎂、鋅(xin)、鋁、銅(tong)合(he)金時從熔化(hua)(hua)金屬中除掉氮、氧、碳化(hua)(hua)物(wu)。
52、三氟化磷(lin)-PF3,>99%,用于外(wai)延、離子(zi)注入工序;另外(wai)用作氟化劑(ji)。
53、三(san)氟(fu)化砷(shen)-AsF3,>99.9%,用于外延、離(li)子注入工序(xu);另外用作(zuo)氟(fu)化劑。
54、二氟化氨-XeF2,>99.9%,用(yong)于外延、離子注入工序;用(yong)于固定模(mo)具氨的考察及(ji)原子反應堆排放廢氣中氮(dan)的測定。
55、三(san)氟氯甲烷-CClF3,(R-13),>99.995%,用于等離子干刻(ke)工序;冷凍劑、空調均(jun)可用。
56、三(san)氟甲烷(wan)-CHF3,(R-23),>99.999%,用于等(deng)離子(zi)干刻(ke)工(gong)序;低(di)溫冷凍劑。
57、三氟化(hua)氮-NF3>99.99%,用(yong)于等離子干刻工序;火箭推(tui)進劑、氟化(hua)劑。
58、三氟嗅甲烷-CBrF3,(R13B1),>99.99%,用于等離子干刻工序;還用于空調(diao)、低溫冷凍及滅(mie)火(huo)劑。
59、三氟化硼-11-B11F3,>99.99%,用(yong)于離子注入工序(天然硼的同位(wei)(wei)素,含(han)11B81%,10B19%。出售的11B是濃縮含(han)有96%同位(wei)(wei)素BF3);還用(yong)于制備(bei)光導纖維。
60、四氟化碳-CF4,(R-14),>99.99%,用于等離子(zi)干刻工序;在很低(di)溫度(du)下作為低(di)溫流體用;也用于中性及惰性氣體。
61、四氟化硫-SF4,>98%,用于等離子干(gan)刻工序;氟化劑、表(biao)面處理劑。
62、四氟化(hua)硅(gui)-SiF4,>99.99%,用(yong)于化(hua)學氣(qi)相淀積工(gong)序;制備氟硅(gui)酸(suan)及其(qi)鹽類。
63、四氟化鍺-GeF4,>99.999%,用于離子注入工序。
64、五氟(fu)化(hua)(hua)(hua)磷-PF5,>99.9%,用于離子注入(ru)、等(deng)離子干刻工序;另外,用作(zuo)(zuo)氟(fu)化(hua)(hua)(hua)劑,聚合、烴(jing)(jing)化(hua)(hua)(hua)及脫烴(jing)(jing)化(hua)(hua)(hua)反(fan)應(ying)(ying)、烴(jing)(jing)類裂(lie)化(hua)(hua)(hua)反(fan)應(ying)(ying)時作(zuo)(zuo)催化(hua)(hua)(hua)劑。
65、五氟氯乙烷-C2ClF6,(R-115),>99.99%,用于等(deng)離(li)子干刻工序(xu);另外,作冷凍劑、煙霧噴氣劑。
66、五氟化砷-AsF5,>99%,用(yong)于外(wai)延、離(li)子注入(ru)工序,氟化劑(ji)。
67、六(liu)氟(fu)乙(yi)烷-C2F6,(R-116),>99.99%,用(yong)于等離子(zi)干刻工序;用(yong)作冷(leng)卻、冷(leng)凍(dong)劑和空(kong)調;單體生產(chan)的原料;化學反應中的添氟(fu)劑、電器設(she)備(bei)的絕緣(yuan)劑。
68、六氟(fu)化(hua)硫(liu)-SF6,>99.99%,用(yong)作標準氣(qi);用(yong)于化(hua)學氣(qi)相淀積工序(xu);由于在高電(dian)壓下具有很高的(de)(de)電(dian)阻,用(yong)作電(dian)器設備的(de)(de)絕緣(yuan)劑;檢漏(lou)氣(qi)體,實驗室中作色譜儀的(de)(de)載氣(qi)。
69、六氟化(hua)鎢-WF6,>99.99%,用于(yu)化(hua)學氣相淀積工序;強烈的氟化(hua)劑;也用作鎢載體。
70、六氟化氧-(CF3)2O2,>99.99%,用于(yu)等離子(zi)干刻(ke)工序。
71、六氟(fu)乙酰-(CF3)2CO,>99.99%,用途同(70)。
72、六氟乙(yi)酞氧(yang)-(CF3CO)2O,>99.99%,用途同(tong)(70)。
73、六氟化錸-ReF6,>97%,用于(yu)離子注入工序;氟化劑。
74、八氟(fu)丙(bing)烷-C3F8,(R-218),>99.9%,用(yong)于等離子干(gan)刻工序;與(yu)氟(fu)利昂相混合作冷凍劑(ji);高壓電的(de)絕(jue)緣劑(ji)。
75、八氟環丁烷-C4F8,(RC318),>99.99%,用(yong)(yong)于等離子干刻工序;用(yong)(yong)作(zuo)冷卻劑(ji)、冷凍(dong)劑(ji);作(zuo)電器和(he)電子設備的氣體絕(jue)緣。
76、十二氟戊(wu)烷(wan)-C5F12,>99.9%,用(yong)于等離子干(gan)刻(ke)工序;也可與CF4相(xiang)混(hun)用(yong)。
77、三甲基鋁-(CH3)3Al,>99.999%,用于化學(xue)氣(qi)相淀(dian)積(ji)工序;金屬的有機合(he)成。
78、三甲(jia)基鎵-(CH3)3Ga>99.999%,用(yong)途(tu)同(tong)(77)。
79、三甲基銻-(CH3)3Sb,>99.999%,用途同(77)。
80、三甲基錮-(CH3)3In,>99.999%,用途同(77)。
81、三乙基鋁-(C2H5)3Al,>99.999%,用途同(77)。
82、三乙基鎵-(C2H5)3Ga,>99.999%,用(yong)途(tu)同(77)。
83、四乙基鉛-(C2H5)4Pb,>99.999%,用(yong)于(yu)化學氣相淀積(ji)工序。
84、丙(bing)烯腈(jing)-C3H3N,>99.9%,用于(yu)等離子干刻工序。
85、1,1,2-三(san)氯乙烯-C2HCl3,>99.99%,用作標準氣(qi)、校正(zheng)氣(qi)、醫療氣(qi);用于半(ban)導體器件制備工藝中熱氧化(hua)工序;另外,用于金(jin)屬的脫脂劑(ji)和脂肪、油、石(shi)蠟等(deng)萃(cui)取劑(ji),衣服(fu)干洗,冷凍劑(ji),殺菌劑(ji)。
86、甲烷-CH4,99.999%,用(yong)作(zuo)標準氣、校正氣、在線儀表標準氣;作(zuo)燃料、宇宙飛船中氣體電(dian)池。
87、甲(jia)烷硫醇-CH3SH,>99.5%,用作(zuo)標準氣(qi)、校正氣(qi);用于有機合成;作(zuo)為(wei)噴氣(qi)燃(ran)料添加劑,殺真菌劑和蛋氨酸的中(zhong)間體(ti)。
88、一(yi)甲(jia)胺-CH3NH2,>99%,用于硫化(hua)促進劑、藥(yao)(yao)物、染料和(he)炸藥(yao)(yao)等,并作溶劑、有機合成(cheng)、醋酸人造纖維。
89、甲醇-CH3OH,>99.9%,用作(zuo)標準氣,與空氣混合后(hou)作(zuo)校正氣;用于制備(bei)甲醛和農藥(yao)鄉用于有機物質的萃取(qu)劑和酒精的變性劑。
90、二甲(jia)胺-(CH3)2NH,>99%,用作抗氧(yang)化劑;在(zai)溶液(ye)中(zhong)作浮洗劑、汽油穩(wen)定(ding)劑、橡(xiang)膠加速劑等。
91、二甲醚-(CH3)2O,>99.9%,在化學工業(ye)中用作配制合成橡膠(jiao)和甲硫醚;用作甲基劑(ji)、萃取劑(ji)、溶(rong)劑(ji);也用作制冷劑(ji)。
92、乙(yi)(yi)炔-C2H2,>99.9%,用作標準(zhun)氣、校正氣;化學工業中的中間體,如制備乙(yi)(yi)烯、乙(yi)(yi)醛(quan)、醋酸乙(yi)(yi)烯、氯乙(yi)(yi)烯、乙(yi)(yi)烯醚等;用于(yu)原子(zi)吸(xi)收光譜(pu)。
93、乙(yi)烯-C2H4,>99.99%,用作(zuo)在線儀表(biao)標準氣(qi)(qi)、標準氣(qi)(qi)、校正氣(qi)(qi);是化學
工業合成(cheng)中的(de)(de)重(zhong)要原料,生(sheng)產塑(su)料的(de)(de)中間體,生(sheng)產乙(yi)醇、醋(cu)酸、氧化(hua)乙(yi)烯、氯乙(yi)烯、乙(yi)苯等的(de)(de)原料;也用(yong)于焊接(jie)和切割(ge)、冷(leng)凍劑(ji)、某些水(shui)果、蔬(shu)菜生(sheng)長的(de)(de)加速劑(ji)。
94、氧化(hua)乙(yi)(yi)(yi)烯-C2H4O,99.9%,用作標(biao)準氣、校正(zheng)氣、醫療氣;與CO2、R11、R21相(xiang)混(hun)合作消毒劑,文物保管,皮革消毒,清洗衣(yi)料均可(ke)采用;化(hua)學(xue)工業中(zhong)用作中(zhong)間體,生產(chan)液體或固(gu)體聚乙(yi)(yi)(yi)二醇、乙(yi)(yi)(yi)醇胺類(lei)等(deng)。
95、溴代乙(yi)烯-C2H3Br,>99.9%,用作(zuo)有(you)機合(he)成的中間體(ti),用聚合(he)法與共聚法來制(zhi)備塑(su)料(liao)。
96、一乙胺(an)-CH3CH2NH2,>99%,水溶(rong)液中含有70%乙胺(an),作為下列化(hua)學(xue)工(gong)業制備中的中間(jian)體:著色劑,電(dian)鍍(du)池、硫化(hua)增速(su)劑等;還用(yong)于(yu)制藥、表面(mian)活性劑、萃(cui)取劑。
97、四氟(fu)乙(yi)烯(xi)-C2F4,>99%,在(zai)生產塑料時作為一種重要(yao)的單體,如(ru)泰氟(fu)隆等。
98、乙(yi)醛-CH5CHO,>99.9%,用(yong)作校正氣;用(yong)于(yu)制備(bei)酷酸(suan)、醋(cu)(cu)醉、醋(cu)(cu)酸(suan)乙(yi)酷、正丁(ding)醇、合成樹脂等。
99、二(er)甲基(ji)二(er)硫醚-CH3S2CH3,>99.9%,用作校正氣、溶劑。
100、二甲基硫醚-CH3SCH3>99.9%,用作校(xiao)正氣、溶劑。
101、乙(yi)醇-C2H5OH,>99.9%,用(yong)作校正氣;用(yong)于(yu)溶(rong)劑,制備染料(liao)、涂料(liao)、藥物、合成橡膠等。
102、乙酰(xian)氯-CH3COCl,99.99%,用于乙酰(xian)化劑和(he)化學試制。
103、1-羥亞(ya)乙基-1,1雙磷(lin)酸-C2H8P2O7,>99.99%,簡稱HEDPA,用(yong)(yong)于(yu)特(te)殊的洗(xi)滌、紡織漂白(bai)分離劑(ji)(ji)、磨(mo)料(liao)和環境(jing)衛生;在(zai)石(shi)油和氣田中用(yong)(yong)作防(fang)腐劑(ji)(ji)。
104、環丙烷-(CH2)3,>99%,用于有機合成;醫藥(yao)上作麻醉劑。
105、甲基(ji)乙炔-C3H4>99%,用作在(zai)線(xian)儀表標準氣、校(xiao)正(zheng)氣;用于制(zhi)備丙酮;化(hua)學工業(ye)中(zhong)作合成中(zhong)間體。
106、六氟丙酮(tong)-CF3COCF3,>99.9%,是強烈的反應氣(qi),常與脂(zhi)肪酮(tong)發生化(hua)學(xue)反應,用(yong)這(zhe)些酮(tong)類(lei)可制備(bei)不(bu)同的產品(pin),如穩定的液體(ti)、溶劑、水泥(ni)、單體(ti)、共(gong)聚(ju)物,以及(ji)農(nong)業及(ji)藥物產品(pin)。
107、三甲胺-(CH3)3N,>99%,用作標準氣,溶液中含25%的三甲胺可作抗(kang)組胺治療(liao)處理;在化學工業中作中間體,用來(lai)生(sheng)產殺蟲劑(ji)(ji)、潤(run)濕劑(ji)(ji)、發泡劑(ji)(ji)、合成樹脂等表面活性劑(ji)(ji)。
108、丙烯(xi)-C3H8,>99.9%,用作標準氣(qi)、校正氣(qi)、在線(xian)儀表標準氣(qi);在化學工(gong)業上用作制備異(yi)丙醇(chun)、氧(yang)化丙烯(xi)、氧(yang)基醇(chun)類、四氯化碳(tan)、聚丙烯(xi)等(deng)。
109、丙二烯-C3H4,99%,在(zai)線儀表標準(zhun)氣(qi);用(yong)于有機(ji)合成中間體。
110、氧(yang)化(hua)丙烯-C3H6O,>99.9%,(又稱1,2-環氧(yang)丙烷),用于制備丙二醇和泡(pao)沫(mo)塑料;也是醋(cu)酸纖(xian)維素、硝酸纖(xian)維素和樹(shu)脂等的(de)溶(rong)劑。
111、甲基乙烯(xi)醚-CH3COCH3,>99.5%,用(yong)作標準氣(qi);用(yong)于(yu)有(you)機合成中間體;塑料(liao)和合成樹(shu)脂制備時的(de)原料(liao)及共聚物(wu)的(de)生產(chan)。
112、六氟丙烯-C3F6,>99.9%,用于有機合成中間體。
113、丙酰氯-CH3CH2COCl,>99.9%,用于(yu)制(zhi)備(bei)鹽(yan)酸(suan)、丙酸(suan);用作氧化劑。
114、正丁烷-C4H10,>99.99%,用(yong)(yong)作(zuo)(zuo)標準氣、校正氣;用(yong)(yong)作(zuo)(zuo)燃料,商業(ye)上主要和(he)異丁烷混合(he)用(yong)(yong);化學工業(ye)中作(zuo)(zuo)制備中間體:乙烯、丙烯、丁烯等;作(zuo)(zuo)煙霧噴射劑;充入溫度計球作(zuo)(zuo)標準蒸汽壓型的(de)壓力(li)表;與氦混合(he)用(yong)(yong)作(zuo)(zuo)電離粒(li)子計算器。
115、異丁烷-iC4H10,>99.99%,用作(zuo)標準氣、校正(zheng)氣;用途同(114)。
116、乙基(ji)乙炔(gui)C4H5,>99%,用作標準氣、校正氣;化學工(gong)業中作為合成中間體。
117、環丁烷-(CH2)4,>99%,作為液體溶(rong)劑,或與其它溶(rong)劑混合(he)使(shi)用;也可作為合(he)成(cheng)中(zhong)間體。
118、丁(ding)烯(xi)-1-C4H8,>99.9%,用(yong)作(zuo)標(biao)準氣(qi)、校(xiao)正氣(qi);用(yong)于(yu)有機化(hua)合物的制備中間(jian)體;催化(hua)脫氫生成丁(ding)二烯(xi)。
119、順(shun)丁烯-2C4H8,>99%,用(yong)作(zuo)標準(zhun)氣(qi)、校正氣(qi);用(yong)于有機化合物的制備中間體;催化脫(tuo)氫生(sheng)成(cheng)丁二(er)烯、酸式(shi)硫(liu)酸鹽,加水(shui)生(sheng)成(cheng)丁醇-2等;也可用(yong)作(zuo)溶劑。
120、反丁烯-2-C4H8,>99%,用作(zuo)標準氣、校正氣;用途同(119)。
121、順(shun)與反丁烯-2-C4H8,>99%,用作校正(zheng)氣;用途同(119)。塑料(liao)和(he)樹脂,生產尼龍(long)-6;也是火箭燃料(liao)組成部(bu)分。
122、1,3丁二烯-C4H6,>99%,用(yong)作校正氣(qi);用(yong)聚(ju)合法和共聚(ju)法來(lai)生(sheng)產合成(cheng)橡膠、塑料(liao)和樹脂,生(sheng)產尼龍-66;也是火箭燃料(liao)組成(cheng)部分。
123、異(yi)丁烯(xi)-iC4H8,>99.9%,用(yong)作校正氣,用(yong)于有(you)機中(zhong)間體,使氧化產生丙(bing)酮和甲(jia)酸,在液相或氣相中(zhong)催(cui)化使生成雙異(yi)丁烯(xi)等(deng);也可用(yong)來制備合成橡膠,有(you)很(hen)高(gao)的耐酸堿度;是良好(hao)的絕緣體。
124、八(ba)氟-2-丁烯-C4H8(全氟丁烯),>99.5%,用于有機合成中間(jian)體。
125、二(er)甲乙基胺-(CH3)2NC2H5,99.99%,一接觸到氧化劑(ji),反(fan)應劇烈;與二(er)氧化碳混合,遇到汞會產生爆炸(zha)反(fan)應。
126、正戊烷-C5H12,>99%,用作標準氣、校正氣;作溶劑及合成中間體。
127、異(yi)戊烷-iC5H12,>99%,用(yong)作校正氣;用(yong)途同(126)。
128、2,2二甲基丙烷(wan)(wan)-C5H12,(又叫新戊烷(wan)(wan)),>99.9%,是(shi)生產異丁烯的原(yuan)料,用于生產合成丁烯橡膠(jiao)。
129、3-甲基(ji)-1-丁烯(xi)-C5H10,(甲基(ji)丁烯(xi)),>99.95%,用(yong)于(yu)有機(ji)合(he)(he)成中間(jian)體;也用(yong)于(yu)增(zeng)加(jia)燃料(liao)的(de)(de)辛烷值(zhi);用(yong)于(yu)塑料(liao)的(de)(de)聚合(he)(he)。
130、特戊酰氯-(CH3)3CCOCl,>99.99%,可制備(bei)氯化氫與特戊酸;可與強氧化劑(ji)反(fan)應。
131、苯(ben)-C5H6,>99.999%,用作(zuo)標準氣、校正氣、零點氣;是染料、塑(su)料、合(he)成(cheng)(cheng)(cheng)像膠(jiao)、合(he)成(cheng)(cheng)(cheng)樹(shu)脂、合(he)成(cheng)(cheng)(cheng)纖維(wei)、合(he)成(cheng)(cheng)(cheng)藥物和農藥的原(yuan)料。
132、己烷-C6H14,>99.9%,用作標(biao)準(zhun)氣(qi)、校正氣(qi);作溶劑。
133、三乙基鋁三氯-C6H15Al2Cl3,>99.99%,用于合成(cheng)中間體;烯(xi)類聚(ju)合催(cui)化(hua)劑,芳烴衍生物聚(ju)合的催(cui)化(hua)劑。
134、環己(ji)(ji)烷-C6H12,>99.99%,用(yong)(yong)作標準氣;用(yong)(yong)于制備環己(ji)(ji)醇和環己(ji)(ji)酮(tong);用(yong)(yong)于合成(cheng)耐6;在涂料工業中廣泛用(yong)(yong)作溶劑(ji),也是樹脂、脂肪、石(shi)蠟、油類的極(ji)好溶劑(ji)。
135、己二酞(tai)氯-ClOC(CH2)4COCl,>99.99%,用于制備氯化(hua)氫與肥(fei)酸。
136、甲苯-C7H8,,>99.99%,用作零點氣(qi)、校正氣(qi);用于制造(zao)糖精、染料、藥(yao)物和炸藥(yao)等;也(ye)用作溶劑。
137、苯乙烯-C8H8,,>99.9%,用作(zuo)校正氣(qi);用于(yu)制樹脂(zhi)、塑料、合成橡膠等(deng)。
138、2-乙(yi)基己(ji)酰氯(lv)-C5H10,C2H5,COCl,>99.9%,可用于制(zhi)備(bei)氯(lv)化氫和(he)2-乙(yi)基己(ji)酸。
139、辛酰氯(lv)-CH3,(CH2,)6COCl,>99.9%,是(shi)氧化劑;可(ke)用于制備鹽酸與(yu)辛酸。
140、氨基咪哇酮-C9H15,N3O3,>99.9%,用(yong)作(zuo)還(huan)原劑。
141、壬酰氯-CCH3(CH2)7COCl,>99.9%,用于制備鹽酸(suan)與壬酸(suan)。
142、新癸(gui)酰(xian)氯-C10H19OCl,>99.9%,用于制備鹽酸(suan)與新癸(gui)酸(suan)。
143、三異丁基(ji)鋁-C12H27,Al,(簡(jian)稱TIBA),>99.99%,用(yong)于合(he)成中間體,是聚合(he)烯(xi)類和二烯(xi)類的(de)催化劑。
144、十二(er)酰氯-CH3(CH2)10COCl,>99.9%,用于制備鹽酸與月(yue)桂酸。
145、十八(ba)酰氯-CH3(CH2)18COCl,>99.9%,用于(yu)制備(bei)鹽酸與硬醋酸。
146、酚酞(tai)黃-C20H14O4,>99.9%,醫療用作瀉(xie)藥。
147、空(kong)(kong)(kong)氣(qi)(或合成空(kong)(kong)(kong)氣(qi))-21%O2,79%N2,用作零(ling)(ling)點(dian)氣(qi),超零(ling)(ling)點(dian)級(ji)空(kong)(kong)(kong)氣(qi)中(zhong)(zhong)含CnHm<0.lppm,零(ling)(ling)點(dian)級(ji)空(kong)(kong)(kong)氣(qi)中(zhong)(zhong)含CnHm<0.2ppm。零(ling)(ling)點(dian)級(ji)空(kong)(kong)(kong)氣(qi)經常用于(yu)色譜(pu)儀火焰離子化檢(jian)定(ding)器和總碳量分析儀中(zhong)(zhong)的氧化劑。
148、仲氫-H2,>99.99%,用(yong)作火箭(jian)推進劑;核工(gong)業中用(yong)于氣泡室(shi);冷電子(zi)工(gong)程低溫(wen)液態供固體電路研(yan)究用(yong)。
149、純水-H2O,>99.9999%,用作標準(zhun)氣(qi)、校(xiao)正氣(qi)。
150、氖-Ne,>99.999%,用作(zuo)標準氣、特種混合氣;用于(yu)充發(fa)光燈(deng)泡、電子管、訊號燈(deng)、等離(li)子體研究、熒光燈(deng)中啟動器、火花室(shi)、蓋革一彌勒管、激光器;用作(zuo)低溫(wen)冷卻劑(ji)。
151、氪(ke)氣(qi)-Kr,>99.995%,用作標準氣(qi)、特種混(hun)合氣(qi)、燈(deng)泡與電子工業用氣(qi)。
152、氙(xian)氣-Xe,>99.995%,用作標準氣、特種混合(he)氣,用于電(dian)(dian)光源、電(dian)(dian)子(zi)工業、充(chong)填閘(zha)流(liu)管和半(ban)波整流(liu)管。
153、溴(xiu)氣-Br2,>99.99%,用于(yu)(yu)化(hua)學(xue)工(gong)業中制備(bei)澳化(hua)氫和其它嗅(xiu)化(hua)合物、氧化(hua)劑(ji)、實驗試劑(ji);也(ye)用于(yu)(yu)染料和攝影工(gong)業。
154、臭氧-O3,>99.99%,用作醫療氣,用于外(wai)科設備(bei)(bei)的(de)消毒,人(ren)類(lei)用水和游泳池的(de)凈化,工業(ye)廢品的(de)處(chu)理,污物消毒;紡織纖(xian)維、紙漿和糖類(lei)的(de)漂白,樟腦的(de)制備(bei)(bei),礦物油及其衍生物的(de)凈化。
155、氰氣-C2N2,>99%,用(yong)作焊接與(yu)(yu)切割耐熱金屬(shu),與(yu)(yu)氧化劑(ji)、臭氧和氟氣混合后作火箭與(yu)(yu)導彈推進(jin)劑(ji);醫學上作薰蒸劑(ji);用(yong)于許多(duo)有(you)機(ji)合成(cheng)中的媒介物。
156、氯(lv)化氰-ClCN,>99%,用(yong)于有機合(he)(he)成;與(yu)薰蒸氣體(ti)相混(hun)合(he)(he)可作熱源。
157、氟(fu)(fu)化(hua)(hua)(hua)(hua)氫-HF,>99.9%,用于制備(bei)氟(fu)(fu)化(hua)(hua)(hua)(hua)物、氟(fu)(fu)氣;在異構化(hua)(hua)(hua)(hua)、冷凝(ning)過程、聚合、干燥、水解反(fan)應等(deng)作為(wei)催化(hua)(hua)(hua)(hua)劑;在有些有機或(huo)無機反(fan)應中作為(wei)氟(fu)(fu)化(hua)(hua)(hua)(hua)劑。
158、亞硝(xiao)酰氯-NOCl,>99%,用(yong)于(yu)有機化(hua)合物的重(zhong)氮(dan)化(hua)、硝(xiao)化(hua)、氯化(hua)作(zuo)用(yong);也用(yong)于(yu)石(shi)油熟化(hua)劑(ji)。
159、過(guo)氟二氯氧ClO3F,>99%,用于與(yu)氟鹵素類相(xiang)混合,成為火箭發(fa)動機的液態氧化(hua)劑;也可供街族化(hua)合物作選擇性的氟化(hua)劑。
160、碳酰氯(lv)-COCl2,(光氣),>99.9%,用于染料、藥物、除(chu)蕎(qiao)劑、殺(sha)蟲劑、合成泡(pao)沫(mo)、樹脂(zhi)和聚合等有(you)機合成;還用作(zuo)氯(lv)化劑。
161、硫(liu)酰氟(fu)-SOF2,>99.5%,用于制備氟(fu)碳化合物;是(shi)優(you)良(liang)的(de)殺蟲薰(xun)(xun)蒸劑,用于集裝箱、農作物種(zhong)(zhong)子(zi)、林木(mu)種(zhong)(zhong)子(zi)的(de)薰(xun)(xun)蒸,倉庫、古(gu)建筑、園林果木(mu)蛀干性害蟲及白蟻的(de)防治,以(yi)及文(wen)物檔案的(de)保護;也(ye)用作催化劑。
162、羰基(ji)鎳(nie)-Ni(CO)4,>99.95%,用于制備高純(chun)鎳(nie);制成金屬鏡及很薄的(de)鎳(nie)箔;是碳化反(fan)應(ying)中有(you)效(xiao)的(de)催(cui)化劑。
163、羰基鐵(tie)(tie)-Fe(CO)5在有(you)的文獻中(zhong)寫(xie)成Fe(CO)4〕,>99.95%,主要作(zuo)鐵(tie)(tie)的載體,在汽油(you)中(zhong)作(zuo)抗爆劑。
164、磷(lin)(lin)酸(suan)-H3PO4,>99.99%,用作校正氣;用于制磷(lin)(lin)酸(suan)鹽、甘(gan)油磷(lin)(lin)酸(suan)醋、磷(lin)(lin)酸(suan)按肥料;還作化(hua)學(xue)試劑。
165、過氙(xian)酸鈉(na)-Na4XeO6·8H2O,>99.99%,強氧化劑,可測(ce)定水中汞含量。
166、一氧化碳-CO,>99.995%,用(yong)作(zuo)標(biao)準氣(qi)(qi)、校正氣(qi)(qi)、在(zai)線儀表標(biao)準氣(qi)(qi);與氫和其它氣(qi)(qi)體混(hun)合作(zuo)燃料(liao)氣(qi)(qi);用(yong)于從(cong)含有鐵、鉆和銅的礦砂中回收鎳;也可用(yong)于制備(bei)酸類(lei)、醚類(lei)和醇類(lei)化學品。
167、二氧化(hua)硫-SO2,>99.99%,用作(zuo)標準氣(qi)、校正氣(qi)、在線儀表標準氣(qi);用于啤酒(jiu)、葡萄酒(jiu)、肉類的(de)(de)防(fang)腐(fu);硫化(hua)物(wu)和氧硫化(hua)物(wu)的(de)(de)制(zhi)備;油(you)類和食(shi)品的(de)(de)漂白劑(ji);硫化(hua)紙漿的(de)(de)制(zhi)備;制(zhi)冰工業的(de)(de)冷卻(que)劑(ji)。
168、二(er)氧化氮-NO2(N2O4),>99.9%,用(yong)作標準(zhun)氣;用(yong)于一些氧化反應(ying)的催(cui)化劑;在丙烯酸鹽類精餾時用(yong)于防(fang)止聚合,用(yong)作有機物的硝化劑、氧化劑、火箭(jian)燃料、面粉漂白(bai)劑。
169、二氟化氧-OF2,>99.5%,用(yong)作氧化劑,是高(gao)能火(huo)箭推進劑系統中的組(zu)成(cheng)部分。
170、三(san)氧化二氮-N2O3,>99.5%,與堿化合生成純堿亞硝酸鹽類;在特殊燃料(liao)系統中作氧化劑,也用于(yu)萜烯(xi)類的鑒(jian)定。
171、三氧(yang)(yang)化(hua)氙-XeO3,>99.99%,用于通(tong)過氧(yang)(yang)化(hua)還原代替測定氧(yang)(yang)化(hua)溶(rong)液的含量(liang)(Xe6→Xe0)。
172、三氧(yang)化(hua)硫(liu)-SO3,>99.99%,用于化(hua)學工業(ye)中制備硫(liu)酸與發煙硫(liu)酸;是(shi)硫(liu)化(hua)劑(ji);也(ye)用于染料工業(ye)。
173、三(san)氟化氯-ClF3,>99.5%,用作火箭導彈推進(jin)劑(ji),當接觸到燃料時(自(zi)發能力(li))能使其(qi)立刻(ke)開(kai)始反應;也用作油井管道(dao)切割劑(ji),管道(dao)深達2公里(li)也可用它來切斷管子。
174、三(san)氟(fu)化溴-BrF5,>99.5%,用作氟(fu)化劑和電解(jie)溶(rong)劑;也用于火箭導彈的推進劑。
175、四氟(fu)化(hua)(hua)(hua)氮-N2F4,>99.9%,強氧化(hua)(hua)(hua)劑,可制備三氟(fu)化(hua)(hua)(hua)氮。
176、四氟化(hua)(hua)氙(xian)(xian)-XeF4,>99.9%,可用于制(zhi)備(bei)過氙(xian)(xian)化(hua)(hua)合物和(he)三(san)氧化(hua)(hua)氙(xian)(xian)溶液。
177、五(wu)氟化溴(xiu)-BrF5,>99%,用作氟化劑;也用于火(huo)箭導彈的推(tui)進(jin)劑。
178、五氟(fu)(fu)化(hua)(hua)氯(lv)-ClF5,>99%,強烈的氧化(hua)(hua)劑(ji),腐蝕性比三氟(fu)(fu)化(hua)(hua)氯(lv)小,可(ke)制備有機(ji)及無機(ji)氟(fu)(fu)化(hua)(hua)物;可(ke)作(zuo)空間(jian)推進(jin)器的助燃(ran)劑(ji)。
179、五氟化碘(dian)-IF5,>99%,用作氟化劑(ji)和燃燒劑(ji)。
180、六氟化鉬(mu)-MoF5>99.9%,強烈的氟化劑(ji),也用于(yu)鑰的載體(ti)。
181、六(liu)氟(fu)(fu)化碲(di)-TeF5,>99.9%,用作氟(fu)(fu)化劑和啼(ti)的(de)載(zai)體。
182、氟三氯甲烷(R11)-CCl3F,>99.95%,用于冷凍工業、空調、溶劑(ji)、滑冰(bing)場、鹽水和海水裝置、煙(yan)霧噴(pen)射(she)劑(ji)、發泡劑(ji)、檢漏、紡織品的干洗。
183、二(er)氟二(er)氯甲烷(wan)(R12)-CCl2F2,>99.9%,用作(zuo)標(biao)準氣、校正(zheng)氣;用于低溫空調(diao)、食品貯藏、冷凍工業、煙霧(wu)噴射劑(ji)、檢漏、膨脹劑(ji)、氣相絕緣(yuan)材(cai)料。
184、二氟氯溴甲烷(wan)(R12B1)-CBrClF2,>99.9%,用于石油、丙(bing)酮、二硫化(hua)碳生產中及電(dian)器(qi)著火時的滅(mie)火劑。
185、二氟二溴(xiu)甲烷(R12B2)-CBr2F2,>99.9%,用于快(kuai)速(su)聚合(he);用作滅火劑。
186、二氯(lv)氟甲烷(R21)-CHCl2F,>99.9%,用于氣(qi)候很熱時(shi)的空調(diao)、冷凍劑(ji)、溶劑(ji)、煙霧(wu)噴射(she)劑(ji)、化學(xue)媒介物。
187、二氟(fu)氯甲烷(wan)(R22)-CHCiF2,>99.9%,用于(yu)冷卻和空(kong)調;在低溫噴(pen)霧特殊情況下作煙霧噴(pen)射劑(ji);氟(fu)化聚合物的(de)生產和檢漏。
188、二(er)氟甲烷(wan)(wan)(R32)-CH2F2,>99%,用作冷(leng)凍劑,與五氟氯乙(yi)烷(wan)(wan)(R115)混(hun)合后形成共沸混(hun)合物的冷(leng)凍劑。
189、氯甲烷(R40)–CH3Cl,>99.5%,用作冷凍(dong)劑,局部麻醉處理;氣溶膠工(gong)業中當作噴射(she)氣體(ti);有機合成中用作甲基劑;作溶劑或萃(cui)取劑。
190、溴甲烷(wan)(R40B1)-CH3Br,>99.9%,用于(yu)有機合成(著色劑(ji)(ji))中甲基(ji)劑(ji)(ji);低溫溶劑(ji)(ji)、冷凍劑(ji)(ji);土(tu)壤與種子(zi)的薰蒸劑(ji)(ji)。
191、氟甲烷(R41)-CH3F,>99.9%,以(yi)混合物用(yong)作(zuo)非燃燒性的煙霧噴射劑。
192、1,1,2,-三氯三氟乙烷(R113)-C2Cl2F3,(俗稱TTE),>99.9%,用(yong)作(zuo)冷凍劑(ji)、傳熱(re)介質(zhi);制備(bei)三氟氯乙烯(R1113)的(de)中間(jian)媒介物。
193、1,2-二氯四(si)氟(fu)乙烷(R114)-C2Cl2F4,>99%,用作冷凍、冷卻、空調,單獨與二氟(fu)二氯甲烷(R12)混合作為化妝品煙霧噴射劑。
194、1,2-二嗅四氟乙烷(R114B2)-C2Br2F4,>99.5%,用(yong)作溶劑(ji)、滅火劑(ji),與其它氟碳化合物(wu)相混合作噴射劑(ji)。
195、五氟氯乙烷(R115)-C2ClF5,>99.9%,用作冷(leng)凍劑(ji)、煙霧(wu)噴射劑(ji)。
196、二氟氯乙烷(R142B)-C2H3ClF2,>99%,用作(zuo)(zuo)冷凍劑、溶劑、與非燃燒性的(de)鹵碳類化(hua)合(he)物相(xiang)混合(he)作(zuo)(zuo)噴(pen)射(she)劑。
197、三氟乙烷(R143)-C2H3F3,>99.9%,用(yong)作冷凍(dong)劑。
198、1,1-二氟乙烷(R152A)-C2H4F2,>99%,用作冷凍劑(ji)、煙霧噴射劑(ji)、有(you)機合(he)成中間媒介(jie)物。
199、氯乙(yi)(yi)烷(R160)-C2H3Cl,>99.9%,用于局(ju)部麻(ma)醉的(de)醫(yi)(yi)療處理,外科和皮膚(fu)科的(de)噴霧醫(yi)(yi)療;在(zai)染料工業(ye)中當作乙(yi)(yi)基(ji)劑、冷凍劑、溶劑、殺蟲(chong)劑的(de)生產。
200、氟乙烷(wan)(R161)-C2H5F,>99.9%,用于合成中間媒介(jie)物。
201、R-12與R152A共(gong)沸混合物(R500)-CCl2F2/C2HF5,>99.9%,用作(zuo)冷凍劑、空調(diao)。
202、R-22與(yu)R115共沸混(hun)合(he)物(R502)-CHClF2/C2H4F2,>99.9%,用作冷凍劑(ji)、空調、噴(pen)霧(wu)。
203、R-23與R13共沸混合物(R503)-CClF3/CHF3,>99.9%,用作冷凍劑、空(kong)調(diao)。
204、全(quan)氟(fu)丁烷(R601)-C4F10,>99%,用作絕(jue)緣氣體。
205、三氟氯乙烯(R1113)-C2ClF3,>99%,用于制(zhi)備(bei)潤滑脂、油(you)類、
蠟(la)類、塑料(liao)的聚合劑,聚三氟氯乙烯的單(dan)體。
206、三氟溴乙烯(R113B1)-C2BrF3,>99%,用(yong)于(yu)聚合反應和化學中(zhong)間(jian)體。
207、二氟氯乙(yi)烯(R1122)-C2HClF2,>99.9%,用(yong)于(yu)化學合成(cheng)中間體。
208、1,1-二氟(fu)乙烷(R1132A)C2H2F2,>99%,是(shi)一個(ge)很重要的單體(ti)(ti),用于生產塑(su)料及(ji)彈性體(ti)(ti)。
209、氯乙(yi)烯(R1140)-C2H3Cl,>99.9%,用作標準氣;用作聚合劑(ji)、有機合成的中間(jian)體(ti)。
210、氟(fu)乙烯(R1140)-C2H3F,>99.9%,用作聚合劑(ji)、有(you)機(ji)合成的中間體。
211、氦-3–He3,>99.99%,充計數管;作(zuo)稀釋制(zhi)冷(leng)機(ji)超低(di)溫冷(leng)源,可達(da)4.5×10-3K。
212、氦-4-He4,>99.99%,在(zai)空間(jian)應用(yong)的低溫火(huo)箭燃料(liao)、核(he)反(fan)應堆中(zhong)重水及所(suo)有常溫與低溫的液體均可用(yong)氦-4作壓送氣。
213、氘-D2,>99.95%,在核工業研(yan)究中應用(yong)在氖核加速(su)器中作為(wei)拋射(she)體;當放射(she)丫能射(she)線時作為(wei)中子源;在研(yan)究化學反(fan)應時,包括氫化合物,可作為(wei)軌跡用(yong);用(yong)于生產重水(D2O)。
214、氚-T2,>99.95%,用作標準氣(qi),控制(zhi)每升(sheng)為1000微(wei)居里,有很廣泛的(de)活潑性,與氖(nai)氬混(hun)合作為載氣(qi),可用于檢測微(wei)量(liang)氮氣(qi)及(ji)其它(ta)稀(xi)有氣(qi)體。
215、氧-18-O218,>99%,可(ke)制備H218O、D218O、S18O2。
216、氮-15-N215,>99%,可制備15NH3、16NO、15NO等。
217、氬-36–Ar36,>99.99%,計量值用(yong)。
218、氬(ya)-40-Ar40,>99.99%,計量值用。
219、氖-20Ne20,>99.99%,計量值用。
220、氖(nai)-22Ne22,>99.99%,計量值用。
221、氪-85-Kr85,>99.99%,標準氣,控制每升為10微居(ju)里(li),充燈泡(pao)用。
222、氪-86-Kr86,>99.9%用作標準氣。
223、氙-133-Xe133,>99.9%,充燈泡用。
224、碳-13-C13,>99%,可制(zhi)備13CO2、13C6H8、13CO、13COS、13C2H4等。
225、碳-14-C14,>99%,用作標準氣,控(kong)制(zhi)每升為100微居(ju)里。
226、碳-18-C18,>99%>99%,可(ke)制備C18O2、C18O。
227、硫-35-S35,>99%,用作標(biao)準氣,控制(zhi)每升為100微居里(li)。
228、三氯(lv)甲烷-CHCl3,>99.9%,用于等離子干刻。
229、三(san)氯乙烷-C2HCl3,>99.9%,用于(yu)熱氧化。
230、二甲基二氯硅烷-(CH3)2SiHCl2,>96%,用于(yu)外延、化學氣相淀(dian)積。
231、二甲基氯硅(gui)烷-(CH3)2SiHCl,>96%,用于(yu)外延(yan)、化學氣相(xiang)淀積。
232、三甲基氯硅烷-(CH3)3SiCl,>95%,用(yong)于(yu)外延、化(hua)學(xue)氣相淀積(ji)。
233、二氟(fu)四氯乙(yi)烷-C2Cl4F2,>99.9%,用(yong)于等離子干(gan)刻(ke)。
234、六氟(fu)化硅-SiF2,>99.9%,用于等(deng)離子干刻。
235、八氟甲烷-CF8,>99.9%,用于等離(li)子干(gan)刻。
236、異十氟丁烷-i-C4F10,>99.9%,用于等離子干刻。
237、十二氟乙(yi)烷-C2F12,>99.9%,用于等離子干刻。
238、乙(yi)烯基(ji)甲基(ji)醚-C3H3O,>99.5%。
239、乙烯基(ji)乙炔-CH2CHC2H,>50%。
240、二甲基鎘-(CH3)2Cd,純度>99.999%,電子氣,用于MOCVD。
241、二乙基鎘(ge)-(C2H5)2Cd,>99.999%,電(dian)子氣,用于MOCVDo
242、四甲基錫-(CH3)4Sn,>99.999%,電子氣(qi),用(yong)于MOCVD。
243、四乙(yi)基錫(xi)-(C2H5)Sn,>99.999%,電(dian)子氣,_用于MOCVD。
244、三甲基砷-(CH3)3As,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。
245、三乙基砷-(C2H5)3As,>99.999%,電子氣,用于(yu)MOCVD。
246、三乙基銻(ti)-(C2H5)3Sb,>99.999%,電(dian)子(zi)氣,用于MOCVD。
247、二乙基銦-(C2H5)2ln,>99.9999%,電子氣,用于(yu)MOCVD。
248、二甲(jia)基銦-(CH3)2In,)99.9999%,電(dian)子氣,用于(yu)MOCVD。
249、二乙基鎂-(C2H5)2Mg,>99.999%,電子氣,用于(yu)MOCVD。
250、二甲(jia)基汞-(CH3)2Hg,>99.999%,電子氣(qi),用于(yu)MOCVD。
251、二乙基汞-(C2H5)2Hg,>99.999%,電子(zi)氣,用于(yu)MOCVD。
252、三甲基(ji)磷-(CH3)3P,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。
253、三乙基磷-(C2H5)3P,>99.999%,電(dian)子氣,用(yong)于MOCVD。
254、三異(yi)丁基鋁(lv)-(i-C4H9)3AI,>99.9999%,電子氣,用于MOCVD。
255、丙硅烷-Si3H8,>99%,電子氣,用于CVD。
256、三氯化鋁-AlCl3,>99.999%,電子氣(qi),用于外延(yan)。
257、五氟化鉭-TaF5,>99.9%,電子氣(qi),用于離子注入。
258、五氟化(hua)鉈-TlF5,>99.9%,電(dian)子氣,用(yong)于離(li)子注入。
259、氯乙烯-C2H3Cl,99.9%,校正氣,用作冷(leng)凍(dong)劑。
260、氟乙烯(xi)-C2H3F,>99.9%,校正氣,用于制聚乙烯(xi)樹脂和其(qi)它(ta)單體的共聚物。