CCD里面灰(hui)塵的(de)形成以(yi)及清潔方(fang)法
眾(zhong)所(suo)周知,數碼(ma)相機的圖(tu)象傳感(gan)器對(dui)于空氣中的灰塵非常敏感(gan),灰塵很(hen)容易落在傳感(gan)器表(biao)面,
當我們進行拍攝時,CCD表面沾上的灰塵就會在圖象上留下暗斑。用較小光圈(一般小于F16)拍攝的時候或用長焦距鏡進行縮小拍攝時,暗斑就尢為明顯。相信“DSLR”的影友都經歷過傳感器染塵后令照片出現黑點的煩惱。因此除了每張照片都用軟件后期處理外,最根本的方法便是清潔相機的CCD。而目前清潔CCD的工具和方法五花八門,各有利弊。故而CCD的清潔成了廠商和影友棘手的問題。
在這里(li)我們先討論(lun)一(yi)下CCD灰(hui)塵的形成等問題:
1、 灰塵如何進入到CCD表面的?
就一般情況而言,一部全新的相機在放置環境合適的情況下CCD/CMOS表面是相對潔凈的。但是相機使用一段時間后CCD/CMOS表面就會沾染灰塵。所有CCD/CMOS表面的灰塵是在使用過程中(尤其是在更換鏡頭時)或在放置環境差的情況下產生的。當然,無論怎么小心使用,CCD/CMOS上都會或多或少的沾染灰塵,只是遲早的問題,因而CCD/CMOS除塵問題就更加顯得迫切和重要。
經過分析,CCD/CMOS產生灰塵的過程大致如下(xia):
a.空氣中的灰塵;
b.相機(ji)腔內的灰塵或(huo)毛絨,油污;
c.鏡頭(tou)接環上附著的灰塵;
d. 空(kong)氣(qi)中的潮氣(qi)在溫差的作用下;
機(ji)身與鏡頭的縫隙,相機(ji)腔。
更換鏡頭。
反光板快速上翻。
快(kuai)門釋放(fang) 形成水珠。
相機腔(qiang)內空氣被擾(rao)動。
凝固。
水(shui)跡或霉點吸(xi)附在CCD/CMOS表面(mian)。
灰塵飛動。
簾幕式快門打開。
灰塵吸附到(dao)CCD/CMOS表(biao)面(mian).
2.CCD/CMOS表面灰塵的種類:
浮塵
干性
靠靜(jing)電(dian)吸附在CCD/CMOS表面帶附著力
a.顆粒狀的微塵
濕性
自(zi)帶黏結力直接(jie)粘附在CCD/CMOS表面(mian)。
b.毛絲狀灰塵
中性水跡
c.水跡狀灰塵
帶油性或其他化(hua)學成分的(de)水(shui)跡(ji)
霉點
3.灰塵在CCD/CMOS表面的分布狀況:
一(yi)般情(qing)況下(xia),灰塵均是以(yi)點狀(zhuang)、線狀(zhuang)或(huo)水(shui)跡(ji)狀(zhuang)分(fen)布于(yu)CCD/CMOS表面某個或(huo)若干個位置上。正常使用或(huo)存放環境合適(shi)的(de)(de)情(qing)況下(xia),灰塵一(yi)般不(bu)會(hui)超過(guo)十個點。通(tong)常以(yi)點狀(zhuang)的(de)(de)灰塵為(wei)最多,并(bing)且不(bu)論(lun)干性、濕(shi)性都會(hui)有(you)一(yi)定(ding)的(de)(de)附著力(li)(li)和黏結力(li)(li)。
4.目前主要的除塵方法:
A.吸(xi)(xi)塵(chen)(chen)法:通(tong)(tong)常采用(yong)渦(wo)輪式(shi)或(huo)(huo)活(huo)塞式(shi)的(de)(de)(de)吸(xi)(xi)塵(chen)(chen)泵。產生吸(xi)(xi)力(li)(li)(li)通(tong)(tong)過一條(tiao)硬或(huo)(huo)軟的(de)(de)(de)導(dao)管,依靠泵的(de)(de)(de)吸(xi)(xi)力(li)(li)(li)吸(xi)(xi)除CCD/CMOS表面的(de)(de)(de)灰塵(chen)(chen)。就如同吸(xi)(xi)塵(chen)(chen)器(qi)的(de)(de)(de)原(yuan)理一樣(yang)。這種方法可以(yi)不(bu)直接接觸CCD/CMOS表面對于干性(xing)浮塵(chen)(chen)有一定(ding)的(de)(de)(de)作用(yong)。而對有附(fu)著力(li)(li)(li)和黏結力(li)(li)(li)的(de)(de)(de)灰塵(chen)(chen)、水跡(ji)、油跡(ji)、霉點則無能(neng)為力(li)(li)(li)。
B.沾的方(fang)法,一般采用橡膠(jiao)(jiao)棒(俗稱果凍筆),或粘(zhan)性較低的膠(jiao)(jiao)紙等(deng)來粘(zhan)CCD/CMOS表面上(shang)的灰塵。這種方(fang)法操作雖然方(fang)便,但實際(ji)效果不好。粘(zhan)塵時(shi)可(ke)能(neng)會留(liu)下方(fang)框(kuang)痕跡。使用不當時(shi)會出現殘膠(jiao)(jiao),而(er)一旦膠(jiao)(jiao)殘留(liu)在CCD/CMOS表面,清(qing)潔難(nan)度(du)會更大。重(zhong)復(fu)清(qing)潔容易(yi)二次(ci)污染,如果粘(zhan)力過大則(ze)會粘(zhan)掉(diao)低通(tong)濾(lv)鏡上(shang)的鍍膜層。
C.一(yi)次性清潔(jie)棒:一(yi)般采(cai)用質地柔軟超細纖維材料,沾(zhan)上(shang)(shang)清潔(jie)溶液(ye),固定(ding)在(zai)清潔(jie)棒上(shang)(shang),采(cai)用無塵(chen)包裝。一(yi)般按(an)CCD的寬度分(fen)不(bu)同規格。這種方法操作方便,正常使(shi)用下不(bu)會(hui)損傷CCD/CMOS。但是這種方法在(zai)實際(ji)操作過程中(zhong),使(shi)用濕棒過后(hou),會(hui)在(zai)CCD/CMOS表面(mian)留(liu)下橫(heng)道線狀痕跡。CCD/CMOS表面(mian)的灰塵(chen)只是點狀或條狀分(fen)布于CCD某個或若干個位置。無塵(chen)處(chu)根(gen)本(ben)不(bu)需要(yao)清潔(jie)。使(shi)用不(bu)當,特別是來回(hui)的擦拭會(hui)越弄越臟。其必須清潔(jie)一(yi)次換(huan)一(yi)支。而且(qie)對于油性灰塵(chen),由于清潔(jie)容易不(bu)能溶解油性灰塵(chen),而無法達到清潔(jie)效果。
D.清潔(jie)刷:一般采用具有(you)靜電附(fu)著力(li)的柔軟刷毛,清潔(jie)CCD/CMOS表面(mian)的灰塵(chen)。使灰塵(chen)吸附(fu)在刷毛上。這種方法對于浮塵(chen)有(you)一定(ding)的作用。而對于有(you)黏結力(li)的灰塵(chen),水跡、霉點無(wu)作用。
E.相(xiang)機(ji)自帶的防(fang)塵系統,一般(ban)采用超聲波震動(dong)傳感(gan)器來(lai)達到除(chu)塵的目(mu)的,效果如(ru)何,見仁(ren)見智(zhi)。
F.壓(ya)縮空氣:依靠裝(zhuang)在容(rong)器中的(de)壓(ya)縮氣體吹去CCD/CMOS表面的(de)灰(hui)塵,這種方法同樣無(wu)法清除帶粘結力(li)的(de)灰(hui)塵、水(shui)跡、霉(mei)點等(deng)。
G.維(wei)修站清(qing)(qing)潔。維(wei)修人(ren)員一(yi)般均采(cai)(cai)用(yong)尖咀夾子,包(bao)上(shang)(shang)柔軟的鏡(jing)頭(tou)紙(zhi)(zhi),再沾上(shang)(shang)少許帶揮(hui)發性(xing)的清(qing)(qing)潔溶(rong)(rong)(rong)液(多(duo)為純度較高的酒精)。針(zhen)對灰塵(chen)分布的位置點(dian)狀清(qing)(qing)潔。輕(qing)輕(qing)點(dian)擦一(yi)次就換一(yi)張鏡(jing)頭(tou)紙(zhi)(zhi)。如遇(yu)油(you)性(xing)頑(wan)塵(chen)則會(hui)用(yong)稀濕的中(zhong)性(xing)清(qing)(qing)潔溶(rong)(rong)(rong)液清(qing)(qing)潔。然后再采(cai)(cai)用(yong)帶揮(hui)發性(xing)溶(rong)(rong)(rong)液清(qing)(qing)潔一(yi)次。綜合以(yi)上(shang)(shang)各(ge)種清(qing)(qing)潔方(fang)(fang)法,這是效果最(zui)好的清(qing)(qing)潔方(fang)(fang)法。然后對于大多(duo)數的影友而言。在(zai)(zai)操作(zuo)方(fang)(fang)法上(shang)(shang),比如在(zai)(zai)夾子頭(tou)上(shang)(shang)包(bao)裹(guo)鏡(jing)頭(tou)紙(zhi)(zhi),選擇鏡(jing)頭(tou)紙(zhi)(zhi),及操作(zuo)力度以(yi)及手(shou)法上(shang)(shang)都存在(zai)(zai)一(yi)定的困難。因而心有余悸不(bu)敢自己動手(shou)操作(zuo)。
5.自行操作擔心的問題:
由于相機的傳(chuan)感(gan)器十分(fen)嬌(jiao)貴,影友自己動手清潔CCD心(xin)存恐(kong)懼。
主要表現在:
a. 怕刮傷CCD/CMOS
b. 怕損壞(huai)快門葉(xie)片
c. 怕清潔不干凈,越(yue)弄越(yue)臟
d. 不懂操作
6,關于CCD/CMOS清潔的幾個誤區:
a. CCD/CMOS的清潔(jie)并不象想象那么難。只要選擇的工具(ju)材料合適,操作方法得當(dang),是可以完全自己動手(shou)清潔(jie)的。
b. CCD/CMOS的清潔(jie)只(zhi)須針對(dui)點(dian)狀,條狀的灰塵分布的特定(ding)位(wei)置(zhi),點(dian)對(dui)點(dian)清潔(jie),就象維修人員(yuan)一(yi)樣根據灰塵特定(ding)的位(wei)置(zhi)清潔(jie)。而沒有(you)灰塵部分根本用(yong)不著清潔(jie),否則越弄越臟。
c. 對于帶附著力、黏結力的灰塵,水跡(ji),油跡(ji)或霉點(dian)。只有(you)采用(yong)接(jie)觸(chu)式(shi)的方式(shi)才能清潔干凈。而所有(you)接(jie)觸(chu)式(shi)的清潔方式(shi)必須是一次(ci)性的,不能來回(hui)擦拭,就如專(zhuan)業維(wei)修人員一樣,夾(jia)子夾(jia)的鏡(jing)(jing)頭紙沾(zhan)上少許清潔溶液后,只輕擦一次(ci)就換一張鏡(jing)(jing)頭紙。
d. 對(dui)于CCD/CMOS表面的(de)(de)灰塵(chen),不(bu)(bu)能用力來回擦拭。只能輕(qing)(qing)輕(qing)(qing)地從同一方向。對(dui)特定位置的(de)(de)灰塵(chen)輕(qing)(qing)拭一次(ci)或利用微濕(shi)(要干不(bu)(bu)干的(de)(de)效果最好)的(de)(de)鏡(jing)頭布粘起灰塵(chen),而且必須一次(ci)換一張布,以免二次(ci)污染(ran)。