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王占國-半導體材料物理學家介紹

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王占國
王占國,畢業于南開大學,半導體材料及材料物理學家,中國科學院院士。長期從事半導體材料光電性質、半導體深能級和光譜物理,砷化鎵材料與器件關系等方面研究,現為中國科學院半導體研究所研究員、博士生導師,曾獲“國家科技進步三等獎”、“國家自然科學二等獎”等榮譽。

人(ren)物名(ming)片(pian)

  • 中(zhong)文名 王占國
  • 性(xing)別
  • 國籍 中(zhong)國
  • 民(min)族 漢族
  • 出生地 河南省南陽(yang)市
  • 出(chu)生日(ri)期(qi) 1938年12月
  • 畢業院校 南開大學
  • 職業職位 中國科學院院士
  • 主要成就 “國家(jia)科技進(jin)步三(san)等(deng)獎”、“國家(jia)自然科學(xue)二等(deng)獎”

人物履歷

1962年,畢業于南(nan)開大學物(wu)理系,隨后進入中國(guo)科學院半導體所工作。

1980年 - 1983年,前往瑞典隆(long)德大學固(gu)體(ti)物理系從(cong)事深能級物理和(he)光譜物理研究。

1986年,擔(dan)任中國(guo)科(ke)學(xue)院半導體所(suo)研(yan)究員、材料(liao)室(shi)主任。

1990年,被批準為中國科學院半導體所博(bo)士生(sheng)導師。

1990年 - 1994年,擔任中國科(ke)學院(yuan)半導(dao)體所副(fu)所長(chang)。

1995年,當選為中國科學院院士。

榮(rong)譽成(cheng)就

1989年,榮獲“中國科(ke)學院科(ke)技進步(bu)一等獎(jiang)”。

1990年,榮獲“國家科(ke)技進步三等獎”、“中國科(ke)學(xue)院科(ke)技進步三等獎”。

2001年,榮獲“國家自然科學(xue)二等獎(jiang)”、“何梁何利科學(xue)與技術(shu)進步獎(jiang)”。

標簽: 科學家
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