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  • 專利名稱:一種基于復合犧牲層的紅外探測器制作方法
  • 專利類型:發明
  • 申請號:CN201110065880.7
  • 公開(公告)號:CN102683474B
  • 申請日:20110318
  • 公開(公告)日:20141105
  • 申請人:浙江大立科技股份有限公司
  • 發明人:姜利軍,池積光,錢良山,羅雯雯
  • 申請人地址:310053 浙江省杭州市杭州國家高新技術產業開發區濱康路639號(高新區)
  • 申請人區域代碼:CN330108
  • 專利權人:浙江大立科技股份有限公司
  • 洛迦諾分類:
  • IPC:H01L31/18
  • 優先權:
  • 專利代理機構:浙江杭州金通專利事務所有限公司 33100
  • 代理人:趙芳;徐關壽
  • 審查員:龔雪薇
  • 國際申請:
  • 國際公開(公告):
  • 進入國家日期:
  • 分案申請:

關鍵詞

犧牲層,圖形化,紅外探測器,聚酰亞胺,敏感層,電極層圖形,金屬電極,微橋結構,揮發性,保護層,硅襯底,接觸孔,結構層,金屬層,粘附性,晶硅,通孔,平坦,復合,金屬
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