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專利名稱：紅外探測器及其制造方法
專利類型：發明
申請號：CN200810201307.2
公開(公告)號：CN101445215B
申請日：20081016
公開(公告)日：20140521
申請人：上海集成電路研發中心有限公司,浙江大立科技股份有限公司
發明人：康曉旭,姜利軍
申請人地址：201203 上海市張江高科技園區碧波路177號華虹科技園4樓B區
申請人區域代碼：CN310115
專利權人：上海集成電路研發中心有限公司,浙江大立科技股份有限公司
洛迦諾分類：無
IPC：B81B7/02,G01J5/10,B81C1/00
優先權：無
專利代理機構：上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
代理人：鄭瑋
審查員：陸帥
國際申請：無
國際公開(公告)：無
進入國家日期：無
分案申請：無

關鍵詞

金屬反射層,介質層,紅外探測器,硅襯底,犧牲層,沉積,反射圖案,紅外吸收,金屬電極,刻蝕介質,敏感材料,金屬層,上表面,圖形化,微橋,平坦,探測,金屬

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