電子顯微鏡和光學顯微鏡的區別

1、照明源不同

電(dian)(dian)(dian)(dian)子顯(xian)微鏡(jing)所用的(de)照(zhao)明源是電(dian)(dian)(dian)(dian)子槍發(fa)出的(de)電(dian)(dian)(dian)(dian)子流，而光學(xue)顯(xian)微鏡(jing)的(de)照(zhao)明源是可見光(日光或燈光)，由于(yu)電(dian)(dian)(dian)(dian)子流的(de)波(bo)(bo)長(chang)遠(yuan)短于(yu)光波(bo)(bo)波(bo)(bo)長(chang)，故電(dian)(dian)(dian)(dian)子顯(xian)微鏡(jing)的(de)放(fang)大及分辨率顯(xian)著地高于(yu)光鏡(jing)。

2、透鏡不同

電子顯(xian)微鏡中(zhong)起放大作用的(de)物(wu)鏡是電磁(ci)透鏡(能(neng)在中(zhong)央部位產(chan)生磁(ci)場的(de)環(huan)形(xing)電磁(ci)線圈)，而(er)(er)光學顯(xian)微鏡的(de)物(wu)鏡則是玻(bo)璃磨制而(er)(er)成(cheng)的(de)光學透鏡。電子顯(xian)微鏡中(zhong)的(de)電磁(ci)透鏡共有三組，分(fen)別與光學顯(xian)微鏡中(zhong)聚光鏡、物(wu)鏡和目(mu)鏡的(de)功能(neng)相當。

3、成像原理不同

在電(dian)子(zi)(zi)(zi)顯(xian)微(wei)鏡(jing)(jing)中，作(zuo)(zuo)用(yong)于被(bei)檢樣(yang)(yang)品的(de)(de)電(dian)子(zi)(zi)(zi)束經電(dian)磁透鏡(jing)(jing)放大后打到熒光屏上成(cheng)像或作(zuo)(zuo)用(yong)于感光膠(jiao)片(pian)成(cheng)像。其電(dian)子(zi)(zi)(zi)濃(nong)淡(dan)的(de)(de)差別(bie)產生的(de)(de)機理是(shi)，電(dian)子(zi)(zi)(zi)束作(zuo)(zuo)用(yong)于被(bei)檢樣(yang)(yang)品，入(ru)射(she)電(dian)子(zi)(zi)(zi)與物質的(de)(de)原子(zi)(zi)(zi)發(fa)生碰撞產生散(san)射(she)，由于樣(yang)(yang)品不(bu)同部(bu)位對(dui)電(dian)子(zi)(zi)(zi)有不(bu)同散(san)射(she)度，故(gu)樣(yang)(yang)品電(dian)子(zi)(zi)(zi)像以濃(nong)淡(dan)呈現(xian)。而光學顯(xian)微(wei)鏡(jing)(jing)中樣(yang)(yang)品的(de)(de)物像以亮(liang)度差呈現(xian)，它(ta)是(shi)由被(bei)檢樣(yang)(yang)品的(de)(de)不(bu)同結構(gou)吸(xi)收光線多少(shao)的(de)(de)不(bu)同所(suo)造成(cheng)的(de)(de)。

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4、分辨率

光學顯微(wei)(wei)鏡因為光的干涉與衍射作用，分(fen)(fen)辨率(lv)只能局(ju)限于02-05um之間。電(dian)子(zi)顯微(wei)(wei)鏡因為采用電(dian)子(zi)束作為光源，其分(fen)(fen)辨率(lv)可(ke)達到1-3nm之間，因此光學顯微(wei)(wei)鏡的組織觀(guan)察屬于微(wei)(wei)米(mi)級(ji)分(fen)(fen)析，電(dian)子(zi)顯微(wei)(wei)鏡的組織觀(guan)測屬于納米(mi)級(ji)分(fen)(fen)析。

5、景深

一般光(guang)學顯微鏡(jing)(jing)的(de)(de)(de)(de)(de)景(jing)深在(zai)2-3um之間(jian)，因(yin)此(ci)(ci)對樣(yang)品的(de)(de)(de)(de)(de)表面光(guang)滑程(cheng)(cheng)度具(ju)有(you)極(ji)高(gao)的(de)(de)(de)(de)(de)要求，所以制樣(yang)過(guo)程(cheng)(cheng)相對比(bi)較復雜。掃描電鏡(jing)(jing)的(de)(de)(de)(de)(de)精神則可高(gao)達(da)幾(ji)個(ge)毫(hao)米(mi)，因(yin)此(ci)(ci)對樣(yang)品表面的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)滑程(cheng)(cheng)度幾(ji)何(he)(he)沒有(you)任何(he)(he)要求，樣(yang)品制備比(bi)較簡單(dan)，有(you)些樣(yang)品幾(ji)何(he)(he)無需制樣(yang)。體(ti)式顯微鏡(jing)(jing)雖然也具(ju)有(you)比(bi)較大的(de)(de)(de)(de)(de)景(jing)深，但(dan)其(qi)分辨(bian)率(lv)卻(que)非常的(de)(de)(de)(de)(de)低。

6、所用標本制備方式不同

電子(zi)顯微(wei)鏡觀察所用組(zu)(zu)織(zhi)細(xi)胞(bao)標(biao)本(ben)(ben)(ben)的(de)制備程序較復雜，技術難度和費用都(dou)較高，在取材、固定、脫水和包埋等(deng)環節(jie)上需(xu)要特殊的(de)試劑和操(cao)作，最(zui)后還需(xu)將包埋好的(de)組(zu)(zu)織(zhi)塊放人超薄(bo)切片(pian)(pian)(pian)機切成(cheng)50～100nm厚的(de)超薄(bo)標(biao)本(ben)(ben)(ben)片(pian)(pian)(pian)。而光鏡觀察的(de)標(biao)本(ben)(ben)(ben)則一(yi)般置于載玻片(pian)(pian)(pian)上，如普通組(zu)(zu)織(zhi)切片(pian)(pian)(pian)標(biao)本(ben)(ben)(ben)、細(xi)胞(bao)涂片(pian)(pian)(pian)標(biao)本(ben)(ben)(ben)、組(zu)(zu)織(zhi)壓(ya)片(pian)(pian)(pian)標(biao)本(ben)(ben)(ben)和細(xi)胞(bao)滴(di)片(pian)(pian)(pian)標(biao)本(ben)(ben)(ben)。

7、應用領域

光學顯微鏡主要(yao)用于光(guang)(guang)滑表(biao)面的(de)(de)微(wei)米級組(zu)織(zhi)(zhi)觀(guan)察與測量，因為(wei)(wei)采用可(ke)(ke)見光(guang)(guang)作為(wei)(wei)光(guang)(guang)源因此(ci)不僅能(neng)觀(guan)察樣(yang)品(pin)表(biao)層組(zu)織(zhi)(zhi)而且在(zai)表(biao)層以(yi)(yi)(yi)下的(de)(de)一定范(fan)圍內(nei)的(de)(de)組(zu)織(zhi)(zhi)同(tong)樣(yang)也可(ke)(ke)被觀(guan)察到，并且光(guang)(guang)學(xue)顯(xian)微(wei)鏡(jing)對于色彩的(de)(de)識(shi)別非常(chang)敏感和準(zhun)確(que)。電(dian)子(zi)顯(xian)微(wei)鏡(jing)主要(yao)用于納米級的(de)(de)樣(yang)品(pin)表(biao)面形(xing)貌(mao)觀(guan)測，因為(wei)(wei)掃描(miao)(miao)(miao)電(dian)鏡(jing)是依靠物理信號的(de)(de)強(qiang)度來(lai)區分(fen)組(zu)織(zhi)(zhi)信息的(de)(de)，因此(ci)掃描(miao)(miao)(miao)電(dian)鏡(jing)的(de)(de)圖像(xiang)都是黑白的(de)(de)，對于彩色圖像(xiang)的(de)(de)識(shi)別掃描(miao)(miao)(miao)電(dian)鏡(jing)顯(xian)得無(wu)能(neng)為(wei)(wei)力(li)。掃描(miao)(miao)(miao)電(dian)鏡(jing)不僅可(ke)(ke)以(yi)(yi)(yi)觀(guan)察樣(yang)品(pin)表(biao)面的(de)(de)組(zu)織(zhi)(zhi)形(xing)貌(mao)，通(tong)過使(shi)用EDS、WDS、EBSD等不同(tong)的(de)(de)附件設備，掃描(miao)(miao)(miao)電(dian)鏡(jing)還可(ke)(ke)進(jin)一步(bu)擴展(zhan)使(shi)用功能(neng)。通(tong)過使(shi)用EDS、WDS輔助設備，掃描(miao)(miao)(miao)電(dian)鏡(jing)可(ke)(ke)以(yi)(yi)(yi)對微(wei)區化(hua)學(xue)成分(fen)進(jin)行分(fen)析，這(zhe)一點在(zai)失效分(fen)析研究領域由為(wei)(wei)重要(yao)。使(shi)用EBSD，掃描(miao)(miao)(miao)電(dian)鏡(jing)可(ke)(ke)以(yi)(yi)(yi)對材料的(de)(de)晶格(ge)取向進(jin)行研究。

8、放大倍數

光學顯(xian)(xian)微鏡有效(xiao)放大倍(bei)數1000X。電子(zi)顯(xian)(xian)微鏡有效(xiao)放大倍(bei)數可達到1000,000X 。