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專利名稱:
適用于二次燒成用的無鉛熔塊釉
專利類型:
發明
申請號:
CN200610044877.6
公開(公告)號:
CN100376502C
申請日:
20060614
公開(公告)日:
20080326
申請人:
山東硅苑新材料科技股份有限公司
發明人:
張儒嶺,王磊,尚慶剛,任允鵬
申請人地址:
255086山東省淄博市開發區柳泉路264號
申請人區域代碼:
CN370306
專利權人:
山東硅苑新材料科技股份有限公司
洛迦諾分類:
無
IPC:
C03C8/02,C04B41/86
優先權:
無
專利代理機構:
淄博科信專利商標代理有限公司
代理人:
馬俊榮
審查員:
焦磊
國際申請:
無
國際公開(公告):
無
進入國家日期:
無
分案申請:
無
關(guan)鍵詞
無鉛,鎂質瓷,產品成品率,化學重量,健康環保,素燒坯體,一級品率,釉面質量,骨質瓷,石英瓷,蔽光,瓷釉,二次,鎂質,燒成,匹配
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