一、光刻機和芯片有什么關系

光刻機又被稱為掩膜對準曝光機，在芯片生產中用于光刻工藝，而光刻工藝又是生產流程中最關鍵的一步，所以光刻機又是芯片生產中不可缺少的設備，總得來說光刻機是用來制造芯片的。

光(guang)(guang)刻(ke)機(ji)(ji)是光(guang)(guang)刻(ke)技(ji)(ji)術(shu)的(de)載體，而光(guang)(guang)刻(ke)技(ji)(ji)術(shu)是芯(xin)(xin)片技(ji)(ji)術(shu)的(de)重要部分(fen)，光(guang)(guang)刻(ke)機(ji)(ji)的(de)原理就是用光(guang)(guang)把圖案投射到(dao)硅片上。如果想要自主生產芯(xin)(xin)片，光(guang)(guang)刻(ke)機(ji)(ji)是必要的(de)，就像工業中的(de)機(ji)(ji)床一樣。

光(guang)(guang)刻(ke)(ke)機與(yu)芯片(pian)存在(zai)(zai)著密(mi)不(bu)可分的(de)關(guan)系。芯片(pian)與(yu)光(guang)(guang)刻(ke)(ke)機的(de)關(guan)系，就好比是(shi)魚和水。沒了(le)光(guang)(guang)刻(ke)(ke)機，再高端的(de)芯片(pian)技術(shu)(shu)也只(zhi)能(neng)停留在(zai)(zai)理想層面。目前，世界最高端的(de)光(guang)(guang)刻(ke)(ke)機來自荷蘭，相(xiang)信(xin)不(bu)久之后中(zhong)國也能(neng)擁有獨立(li)自主的(de)光(guang)(guang)刻(ke)(ke)機技術(shu)(shu)。

二、光刻機和芯片哪個更難

都(dou)很難的(de)。因為芯片從設計到生產(chan)制造都(dou)是一個復(fu)雜工藝，目前國內，芯片設計軟件(jian)和(he)生產(chan)核(he)心光刻機都(dou)是國外(wai)的(de)。不過光刻機難度最(zui)大，因為再好的(de)設計也需(xu)要(yao)做出來才能算成(cheng)功，而且還要(yao)保持良品(pin)率。

以(yi)我們(men)掌握程(cheng)度為難(nan)易判斷(duan)標準(zhun)，我們(men)掌握了就(jiu)不算難(nan)，沒掌握的就(jiu)算難(nan)。

芯(xin)片設(she)計(ji)，手機通(tong)信我們有華為，中興，展銳等。通(tong)用(yong)桌面服務器有龍芯(xin)，華為，申威等。我們已(yi)經(jing)具有完整的(de)正向(xiang)設(she)計(ji)能力，部分芯(xin)片設(she)計(ji)已(yi)經(jing)接近頂尖(jian)水平，差距一(yi)代(dai)不到。

芯片制造，中芯國際量產(chan)14納(na)米，有望突破7納(na)米。華(hua)虹半(ban)(ban)導體也已經初步量產(chan)14納(na)米。跟(gen)最先進的臺積電(dian)和三星半(ban)(ban)導體比(bi)還有很(hen)大(da)的差距，差距一代多。

光(guang)刻機(ji)，我(wo)們(men)可以完全自(zi)主量(liang)產(chan)(chan)90納(na)米(mi)光(guang)刻機(ji)。現在(zai)最(zui)先進(jin)的極(ji)紫外(wai)光(guang)刻機(ji)只有(you)荷(he)蘭ASML能夠供貨，我(wo)們(men)跟ASML差了三代。根據(ju)公(gong)開信息，我(wo)們(men)28納(na)米(mi)光(guang)刻機(ji)關鍵(jian)部件已經全部完成攻關，今(jin)(jin)年(nian)底有(you)望出整機(ji)樣機(ji)，兩年(nian)內量(liang)產(chan)(chan)。28納(na)米(mi)現在(zai)世界上有(you)兩個(ge)國(guo)家量(liang)產(chan)(chan)，荷(he)蘭和日(ri)本。我(wo)們(men)今(jin)(jin)年(nian)如果能夠踏(ta)入這個(ge)陣(zhen)營，差距縮(suo)小到(dao)一(yi)代。

綜合起來，光刻機差距現在最大，是(shi)最難的(de)(de)。但不(bu)(bu)管什么技(ji)術，只(zhi)要持續不(bu)(bu)斷的(de)(de)投入，不(bu)(bu)被眼前的(de)(de)困難嚇倒，培養(yang)人(ren)才(cai)梯隊，追趕和超越是(shi)遲(chi)早(zao)的(de)(de)。