一、電鍍設備和真空覆膜設備的概述

電(dian)鍍(du)設備(bei)是(shi)通過(guo)電(dian)化(hua)學反應在物體表(biao)面(mian)沉積金(jin)屬或(huo)合(he)金(jin)膜(mo)(mo)的(de)設備(bei)，常(chang)用(yong)于(yu)金(jin)屬電(dian)鍍(du)、化(hua)學鍍(du)、酸洗(xi)、電(dian)解磨(mo)光等(deng)工藝。而真空覆膜(mo)(mo)設備(bei)是(shi)通過(guo)真空技術在物體表(biao)面(mian)蒸發或(huo)濺射金(jin)屬膜(mo)(mo)、合(he)金(jin)膜(mo)(mo)、陶(tao)瓷膜(mo)(mo)、光學膜(mo)(mo)等(deng)的(de)設備(bei)，常(chang)用(yong)于(yu)電(dian)子元件(jian)、化(hua)妝(zhuang)品瓶蓋、鏡框、手表(biao)、手機殼等(deng)產品的(de)表(biao)面(mian)處(chu)理。

二、電鍍設備和真空覆膜設備的區別

1、工作原理的區別

電(dian)(dian)鍍設備(bei)的(de)工作原(yuan)理是(shi)將(jiang)(jiang)帶(dai)電(dian)(dian)的(de)金(jin)(jin)屬離(li)子沉(chen)積到被電(dian)(dian)鍍物(wu)(wu)體上，形(xing)成具(ju)有一定厚(hou)度的(de)金(jin)(jin)屬或(huo)(huo)合(he)金(jin)(jin)膜(mo)(mo)。而真(zhen)空(kong)覆膜(mo)(mo)設備(bei)則是(shi)在(zai)真(zhen)空(kong)條件(jian)下(xia)，將(jiang)(jiang)經加(jia)熱(re)或(huo)(huo)被轟擊的(de)金(jin)(jin)屬源或(huo)(huo)化合(he)物(wu)(wu)源釋放出(chu)的(de)金(jin)(jin)屬離(li)子、原(yuan)子或(huo)(huo)分子沉(chen)積在(zai)被覆膜(mo)(mo)物(wu)(wu)體表面上，形(xing)成金(jin)(jin)屬膜(mo)(mo)、合(he)金(jin)(jin)膜(mo)(mo)、陶(tao)瓷膜(mo)(mo)等。

2、技術特點的區別

（1）覆(fu)蓋面(mian)積：電鍍設備通(tong)常較小(xiao)，所以常用(yong)于(yu)制(zhi)作(zuo)精密(mi)零件(jian)和小(xiao)型產品。而真(zhen)空覆(fu)膜設備有多(duo)種規格和類型，可以處理大型表面(mian)或(huo)多(duo)個小(xiao)表面(mian)。

（2）工(gong)藝復雜度：電鍍設備(bei)需要控(kong)制(zhi)液體電解質的濃度、溫度、PH值和(he)攪拌速度等，工(gong)藝復雜度較(jiao)高，需要一定的化學知識和(he)技能。而真空(kong)覆膜設備(bei)的工(gong)藝比較(jiao)簡單，只需控(kong)制(zhi)真空(kong)度、沉(chen)積速度、材料來源(yuan)和(he)表面(mian)清洗(xi)程度等。

（3）膜(mo)層(ceng)均(jun)一性：電(dian)鍍設備容易(yi)在角(jiao)落和凹(ao)坑等地方堆積(ji)，形成不均(jun)勻的(de)膜(mo)層(ceng)。而真空覆膜(mo)設備通過蒸(zheng)發或濺(jian)射形成的(de)膜(mo)層(ceng)比(bi)較均(jun)勻，并且可以通過調整工(gong)藝參數使得膜(mo)層(ceng)更加均(jun)一。

3、適用范圍的區別

電鍍設備適用(yong)于鍍鋅、鍍鉻、鍍銅、電解鎳、電解銀等(deng)金屬制品(pin)表(biao)面的(de)處(chu)理。而真空覆膜設備則適用(yong)于各種有機(ji)玻(bo)璃、陶瓷制品(pin)、塑料制品(pin)、金屬制品(pin)等(deng)表(biao)面的(de)處(chu)理，可以制作出具(ju)有鏡面效果的(de)金屬膜或光學膜。

三、 電鍍設備和真空覆膜設備哪個好

真(zhen)空(kong)鍍(du)膜和電(dian)鍍(du)各有(you)優(you)缺點(dian)。真(zhen)空(kong)鍍(du)膜優(you)點(dian)是(shi)其(qi)在涂(tu)層(ceng)表面形成了(le)均勻致密(mi)的(de)鍍(du)層(ceng)，并(bing)且(qie)具有(you)優(you)異的(de)金屬光(guang)澤、硬度和耐腐蝕能力；缺點(dian)是(shi)生(sheng)產成本(ben)較(jiao)(jiao)高，依賴先進的(de)真(zhen)空(kong)蒸(zheng)發技(ji)術。電(dian)鍍(du)的(de)優(you)點(dian)是(shi)其(qi)制作(zuo)成本(ben)較(jiao)(jiao)低，且(qie)可以在大型機器(qi)中進行(xing)大規模生(sheng)產；缺點(dian)則是(shi)電(dian)鍍(du)層(ceng)相對較(jiao)(jiao)薄，容(rong)易因(yin)外部環境(jing)受損。

綜上(shang)所述，真(zhen)空鍍(du)膜(mo)和電鍍(du)各有其(qi)獨特(te)的工(gong)藝原理、應(ying)用(yong)范圍、優缺點等特(te)點。在具體應(ying)用(yong)時(shi)，需(xu)結合實際情(qing)況進行選擇(ze)。