一、中國光刻機現在多少納米

2018年3月，上海微電子的90nm光刻機項目通過正式驗收。也就是說，我們的國產光刻機目(mu)前可(ke)以做到90納米工藝(yi)。

之前有(you)網友爆料，上海微(wei)電子(zi)將于(yu)2020年12月下線首臺采用ArF光源的(de)SSA800/10W光刻(ke)機(ji)，這(zhe)是(shi)一臺國產浸沒(mei)式DUV 光刻(ke)機(ji)，可實(shi)現單(dan)次曝光28nm節點。所(suo)以網絡里一直流傳著這(zhe)個說法(fa)。不(bu)過對(dui)于(yu)此消息，有(you)人(ren)說是(shi)真的(de)，有(you)人(ren)說是(shi)假的(de)。讓人(ren)很是(shi)迷糊。

上(shang)海微電子的確在做(zuo)可以實現28納米制(zhi)程(cheng)的國產DUV光刻機。只是是否(fou)通(tong)過驗收(shou)，到底何時能交付，目前(qian)未知。

28納米將會是(shi)我們國產(chan)光刻機的(de)(de)最高(gao)工藝水(shui)平(ping)，嚴格來(lai)說，這個(ge)真的(de)(de)算不上高(gao)水(shui)平(ping)，它的(de)(de)前面還(huan)有14、7、5、3、2，甚(shen)至是(shi)1nm。

但是(shi)28納(na)米(mi)是(shi)成熟工藝，生產成本低，只要不(bu)追(zhui)求極致性能的(de)情(qing)況下，這種制程的(de)芯片，其性能也夠用的(de)，用來生產我(wo)們日常(chang)生活中的(de)電(dian)子設(she)備是(shi)沒(mei)有問題的(de)，例如(ru)電(dian)視(shi)、電(dian)視(shi)盒(he)子、音響(xiang)、電(dian)梯(ti)、空調、微波爐(lu)、冰箱、汽車等等。

另外，根據(ju)研究機構IC Insights發布的(de)《2020-2024年全球(qiu)晶圓(yuan)產能(neng)》報(bao)告，預計(ji)到(dao)2024年，半導(dao)體制(zhi)程格局(ju)將出現10nm以下，10-20nm，20nm以上(shang)工(gong)藝(yi)三分天下的(de)格局(ju)，各自市(shi)場(chang)占有率(lv)約為1/3，而28nm以上(shang)的(de)成熟工(gong)藝(yi)在未來(lai)四年的(de)市(shi)場(chang)份額沒有明顯變(bian)化，仍然有很大的(de)市(shi)場(chang)，所以無需盲目地追求(qiu)制(zhi)程工(gong)藝(yi)。

二、中國高端光刻機什么時候能研制出來

很多人疑惑，中國(guo)是(shi)世界(jie)上工(gong)業(ye)生產能力最強的(de)(de)(de)國(guo)家，為什么中國(guo)造(zao)不(bu)出高端的(de)(de)(de)光(guang)刻機？其實最大(da)的(de)(de)(de)原因就是(shi)中國(guo)的(de)(de)(de)工(gong)業(ye)是(shi)多而(er)不(bu)精。光(guang)刻機并不(bu)是(shi)一項技(ji)術(shu)的(de)(de)(de)突(tu)破，而(er)是(shi)一整個光(guang)學領域(yu)絕大(da)多數技(ji)術(shu)的(de)(de)(de)突(tu)破。

目前(qian)全球最頂尖(jian)的光刻機接(jie)近200噸，由差不(bu)多(duo)十萬個(ge)零(ling)(ling)件(jian)(jian)組(zu)成。其中絕大多(duo)數都(dou)是核(he)心零(ling)(ling)件(jian)(jian)，每一(yi)個(ge)零(ling)(ling)件(jian)(jian)都(dou)需(xu)要很多(duo)技術(shu)的突破才能做出來。有工(gong)程(cheng)師稱，里(li)面一(yi)些零(ling)(ling)件(jian)(jian)需(xu)要打磨十年才能誕生。

雖(sui)然最(zui)先進的光刻機(ji)出自荷蘭，但荷蘭公司也(ye)只是做一(yi)個組裝和調(diao)試的工作，里面的核心零件來源于(yu)大(da)多(duo)數(shu)西(xi)方(fang)國(guo)(guo)家。從(cong)美(mei)國(guo)(guo)到英國(guo)(guo)，從(cong)法國(guo)(guo)到比利時，所有站在(zai)西(xi)方(fang)陣營的國(guo)(guo)家合在(zai)一(yi)起，才能造(zao)出一(yi)臺最(zui)頂尖的光刻機(ji)。所以中國(guo)(guo)要造(zao)最(zui)頂尖的光刻機(ji)并不(bu)是在(zai)和某一(yi)個國(guo)(guo)家對抗，而(er)是在(zai)和整個西(xi)方(fang)世界對抗。

這就好(hao)比班級(ji)考(kao)(kao)試(shi)，考(kao)(kao)試(shi)的(de)(de)(de)科(ke)(ke)(ke)目(mu)有(you)數(shu)百科(ke)(ke)(ke)。總(zong)成(cheng)績好(hao)點的(de)(de)(de)學(xue)(xue)生(sheng)(sheng)固然(ran)(ran)能考(kao)(kao)出一(yi)個(ge)(ge)比較高的(de)(de)(de)總(zong)成(cheng)績，但(dan)是這個(ge)(ge)學(xue)(xue)生(sheng)(sheng)不能讓自己每一(yi)科(ke)(ke)(ke)的(de)(de)(de)成(cheng)績都達到最高。和他(ta)相比，那些成(cheng)績不好(hao)的(de)(de)(de)學(xue)(xue)生(sheng)(sheng)雖(sui)然(ran)(ran)偏科(ke)(ke)(ke)，但(dan)是他(ta)們總(zong)有(you)一(yi)兩科(ke)(ke)(ke)自己擅長的(de)(de)(de)科(ke)(ke)(ke)目(mu)，這些科(ke)(ke)(ke)目(mu)總(zong)有(you)得高分甚至是滿(man)分的(de)(de)(de)機會。這些學(xue)(xue)生(sheng)(sheng)最好(hao)的(de)(de)(de)科(ke)(ke)(ke)目(mu)加起來，就能組成(cheng)一(yi)個(ge)(ge)非(fei)常高的(de)(de)(de)“各科(ke)(ke)(ke)總(zong)成(cheng)績”。

要造出最頂端的光刻機(ji)，就(jiu)需要這(zhe)些科目(mu)每一顆都(dou)得到(dao)極(ji)高的分數(shu)甚至是滿分。所以中國的光刻機(ji)之(zhi)路并不(bu)是突破幾(ji)項新技(ji)(ji)術就(jiu)能走穩、走好(hao)的，中國需要在整個光學技(ji)(ji)術上的絕大多(duo)數(shu)技(ji)(ji)術中得到(dao)突破，才能以一個國家的科技(ji)(ji)實力對(dui)抗整個西方社會。

很多人疑惑中國什么時(shi)候能造出(chu)(chu)最頂尖的(de)(de)光刻(ke)機(ji)(ji)，這(zhe)個問題的(de)(de)答(da)案(an)沒有任何人能給出(chu)(chu)來。中國在(zai)光刻(ke)機(ji)(ji)領域遇到的(de)(de)困難，和中國當年造原子(zi)彈時(shi)，沒有計算機(ji)(ji)，沒有離心機(ji)(ji)，沒有數據資料一(yi)樣困難。當年中國在(zai)美(mei)國造出(chu)(chu)原子(zi)彈接(jie)近9年后擁有了自己的(de)(de)原子(zi)彈，中國現在(zai)打算大力研制光刻(ke)機(ji)(ji)也是(shi)近兩年的(de)(de)事(shi)情。

就目前來說，我國最頂尖的光刻機也就是國際(ji)上2005年(nian)左(zuo)右的光刻機最頂尖(jian)水平，差距(ju)在(zai)15年(nian)左(zuo)右。所以很多人認為，我國應該會在(zai)十(shi)來年(nian)左(zuo)右達到(dao)讓自(zi)己的光刻機達到(dao)國際(ji)社會的最頂尖(jian)水平。