一、光刻膠是什么東西

光刻膠又稱光致抗(kang)蝕劑，是指通(tong)過(guo)紫外光、電子(zi)(zi)束、離子(zi)(zi)束、X射線等(deng)的(de)(de)(de)照射或(huo)輻射，其溶(rong)(rong)解度發生變(bian)化的(de)(de)(de)耐(nai)蝕劑刻(ke)薄膜材料(liao)。由感光樹脂(zhi)、增感劑和溶(rong)(rong)劑3種主要成分組成的(de)(de)(de)對(dui)光敏感的(de)(de)(de)混合液體(ti)。在(zai)(zai)光刻(ke)工藝過(guo)程中，用作抗(kang)腐蝕涂層材料(liao)。半導體(ti)材料(liao)在(zai)(zai)表(biao)面加工時(shi)，若采用適當的(de)(de)(de)有選擇性的(de)(de)(de)光刻(ke)膠，可在(zai)(zai)表(biao)面上得到(dao)所需(xu)的(de)(de)(de)圖像。

二、光刻膠的作用

光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)是(shi)一(yi)(yi)大類具有光(guang)敏(min)化學(xue)作用（或對(dui)電子能(neng)量敏(min)感）的(de)高(gao)分子聚合(he)物材料，是(shi)轉移紫外曝光(guang)或電子束曝照(zhao)圖案的(de)媒介(jie)。光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)的(de)英文(wen)名為(wei)(wei)resist，又(you)翻譯(yi)為(wei)(wei)抗蝕(shi)劑、光(guang)阻等(deng)。光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)的(de)作用就(jiu)是(shi)作為(wei)(wei)抗刻(ke)蝕(shi)層保護襯底表面(mian)。光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)只是(shi)一(yi)(yi)種形象的(de)說法，因為(wei)(wei)光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)從外觀上(shang)呈現為(wei)(wei)膠(jiao)(jiao)(jiao)狀液體。

光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。當紫外光或電子束的照射時，光刻膠材料本身的特性會發生改變，經過顯影液顯影后，曝光的負性光刻膠或未曝光的正性光刻膠將會留在襯底表面，這樣就將設計的微納結構轉移到了光刻膠上，而后續的刻蝕、沉積等工藝，就可進一步將此圖案轉移到光刻膠下面的襯底上，最后再使用除膠劑將光刻膠除去就可以了。