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光刻膠的組成成分有哪些 光刻膠的原理

本文章由注冊用戶 天空之城 上傳提供 2024-04-17 評論 0
摘要:光刻膠又稱光致抗蝕劑,在光刻工藝中,用作防腐蝕涂層材料。目前光刻膠廣泛用于光電信息產業的微細圖形線路加工制作,是電子制造領域關鍵材料。光刻膠由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分組成,其原理包括光敏性原理、光學成像原理。

一、光刻膠的組成成分有哪些

光刻膠主要(yao)由感光(guang)劑(光(guang)引發劑)、聚合劑(感光(guang)樹(shu)脂)、溶劑與(yu)助(zhu)劑構成。

1、光(guang)(guang)引發劑是光(guang)(guang)刻(ke)膠的(de)最關鍵成分,對光(guang)(guang)刻(ke)膠的(de)感光(guang)(guang)度、分辨率起著決定性(xing)作用。

2、感(gan)光(guang)(guang)(guang)樹脂用(yong)于將光(guang)(guang)(guang)刻膠中不同材(cai)料聚(ju)合在一起,是構成光(guang)(guang)(guang)刻膠的骨架,決定光(guang)(guang)(guang)刻膠包括硬度、柔韌性、附著力(li)等基本屬性。

3、溶劑是光刻膠中最(zui)大成(cheng)分,目的是使光刻膠處于液態,但溶劑本(ben)身對光刻膠的化學性(xing)質(zhi)幾乎沒影(ying)響。

4、助劑通常是專(zhuan)有化(hua)(hua)合物,由各家廠(chang)商(shang)獨自研(yan)發(fa),主要用來改變光刻膠特定(ding)化(hua)(hua)學性質。

二、光刻膠的原理

1、光敏性原理

光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)的基(ji)本原理是光(guang)(guang)(guang)敏(min)材料(liao)暴露在紫(zi)外(wai)線下,光(guang)(guang)(guang)線將光(guang)(guang)(guang)敏(min)材料(liao)中的分子(zi)激活(huo),使(shi)其(qi)發生(sheng)化(hua)學(xue)反應,使(shi)光(guang)(guang)(guang)敏(min)膠(jiao)發生(sheng)預設的變化(hua)。根據光(guang)(guang)(guang)線能量的不同,光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)可分為UV光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)和深紫(zi)外(wai)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)。UV光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)用于制造精度要(yao)求低的電子(zi)元件(jian),而深紫(zi)外(wai)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)則用于制造更微小的元器件(jian)。

2、光學成像原理

光刻膠是通過光學成像原理來實現預期的紋理結構。當光照射在光刻膠表面(mian)時(shi),會(hui)通過(guo)掩膜上的(de)白色(se)區(qu)域透過(guo)黑色(se)區(qu)域,達到將(jiang)圖案映射到光刻(ke)膠上的(de)目的(de)。通過(guo)開發過(guo)程,只剩下光刻(ke)膠上所需的(de)微型器(qi)(qi)件的(de)部(bu)分區(qu)域,即(ji)可(ke)形(xing)成要制造的(de)微型器(qi)(qi)件。

3、選擇適合的溶劑

光(guang)刻膠的(de)(de)成(cheng)分(fen)包括(kuo)光(guang)敏(min)材料(liao)、單體、溶(rong)(rong)劑(ji)和(he)劑(ji)量(liang)。反(fan)(fan)應(ying)關(guan)鍵(jian)因(yin)素之一是(shi)選擇適(shi)合系(xi)統的(de)(de)溶(rong)(rong)劑(ji),溶(rong)(rong)劑(ji)是(shi)優化(hua)反(fan)(fan)應(ying)速(su)率(lv)和(he)接觸角的(de)(de)關(guan)鍵(jian)因(yin)素。正確(que)的(de)(de)溶(rong)(rong)劑(ji)選擇可確(que)保強大的(de)(de)粘附力和(he)最小(xiao)的(de)(de)溶(rong)(rong)液浸透時間。

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