一、光刻膠和光刻機有什么區別

光刻膠和光刻機的區別在于作用不同。光刻膠是一種有機化合物，成分是感光樹脂、增感劑和溶劑，它被紫外光曝光后，在顯影溶液中的溶解度會發生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態涂在硅片表面，而后被干燥成膠膜。光刻膠是(shi)微電(dian)子技術中微細圖形加工的(de)(de)關鍵材料(liao)之一，特(te)別(bie)是(shi)近年來大(da)規模和(he)超大(da)規模集成(cheng)電(dian)路的(de)(de)發(fa)展，更是(shi)大(da)大(da)促進了光刻膠的(de)(de)研究開發(fa)和(he)應用。而光刻機(ji)是(shi)制造(zao)芯片的(de)核心裝(zhuang)備，采用(yong)類似(si)照片沖印的(de)技術，把掩膜版上的(de)精細圖(tu)形通過光線的(de)曝光印制到(dao)硅片上。

二、光刻膠和光刻機的關系

光刻膠是光刻機研發的重要材料，光刻機利用特殊光線將(jiang)集成電路映射到(dao)硅片(pian)表(biao)面，并要避免在(zai)硅片(pian)表(biao)面留下痕跡，需(xu)要在(zai)硅片(pian)表(biao)面涂上一(yi)層特殊的(de)物質(zhi)：光刻膠(jiao)。

光刻(ke)(ke)(ke)機和光刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)的(de)關系就是：光刻(ke)(ke)(ke)機在晶(jing)圓上(shang)用光源畫(hua)電路圖的(de)時候，不直(zhi)接畫(hua)圖，需(xu)要在晶(jing)圓上(shang)涂(tu)抹(mo)一層液態的(de)光刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)，光刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)干燥后形成(cheng)膠(jiao)膜(mo)，光刻(ke)(ke)(ke)機才(cai)開(kai)始畫(hua)圖作業。

簡單的說光刻膠是用于保護硅片的，光刻機是用來制作芯片的。光刻膠的性能指標要求極高，如感光的性能、抗蝕性、表面的張力等。目前光刻膠在(zai)芯(xin)片、面(mian)板、模擬半導體、發(fa)光(guang)二極管及光(guang)子器(qi)件上(shang)都得(de)到了廣泛(fan)應(ying)用。