一、光刻膠的種類有哪些

1、按照顯影效果不同，光刻膠分(fen)為正(zheng)性(xing)光(guang)(guang)刻膠和負性(xing)光(guang)(guang)刻膠。

正性光刻膠的曝光部分溶于顯影劑，顯影時形成的圖形與掩膜版上的圖形相同。負性光刻膠的(de)曝光部(bu)分則(ze)不(bu)溶于顯影(ying)劑，顯影(ying)時形成(cheng)的(de)圖形與掩(yan)膜版相反。兩者(zhe)的生產工藝流(liu)程基本一致，區(qu)別(bie)在(zai)于主要原材(cai)料不同(tong)。

2、按照化學結構不同，光(guang)刻膠可分為光(guang)聚合型、光(guang)分解型、光(guang)交聯型和(he)化學放大型。

光聚合型光刻(ke)膠(jiao)采用烯(xi)類(lei)單(dan)體，在光作(zuo)用下生成(cheng)自由基，引發單(dan)體聚合反應生成(cheng)聚合物，常用于負性光刻(ke)膠(jiao)。

光分(fen)解型光刻膠(jiao)，采用(yong)含有(you)重氮醌類化合物（DQN）材料(liao)作(zuo)為感光劑，其經過光照后，發生光分(fen)解反應，可以(yi)制成正性(xing)光刻膠(jiao)。

光(guang)交聯型(xing)光(guang)刻膠采(cai)用聚乙烯醇月桂酸酯等作(zuo)為光(guang)敏材料(liao)，在光(guang)作(zuo)用下，形成(cheng)不溶(rong)性的網狀結構(gou)，起到(dao)抗蝕作(zuo)用，可制(zhi)成(cheng)負性光(guang)刻膠。

化學(xue)放大型光(guang)刻膠(jiao)采用難以溶解(jie)(jie)的(de)聚(ju)乙(yi)烯(xi)樹(shu)脂，使用光(guang)致酸劑（PAG）作為光(guang)引發劑，當光(guang)刻膠(jiao)曝(pu)光(guang)后(hou)，曝(pu)光(guang)區域(yu)PAG產生酸，可作為后(hou)續熱烘(hong)焙工(gong)序的(de)催化器，使得樹(shu)脂變得易于溶解(jie)(jie)。化學(xue)放大光(guang)刻膠(jiao)曝(pu)光(guang)速(su)遞(di)是DQN光(guang)刻膠(jiao)的(de)10倍，對深紫外(wai)光(guang)源具有良好的(de)光(guang)學(xue)敏感(gan)性，同時具有高對比度，對高分辨率(lv)等(deng)優點。

3、按照下游應用領域不同，光(guang)刻膠可分(fen)為PCB光(guang)刻膠、LCD光(guang)刻膠和半(ban)導體光(guang)刻膠。

PCB光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)主要包括干膜光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)、濕膜光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)、光(guang)(guang)成像阻焊(han)油墨。

LCD領域(yu)光刻(ke)膠主要(yao)包括彩色光刻(ke)膠和黑(hei)色光刻(ke)膠、觸摸屏光刻(ke)膠、TFT-LCD光刻(ke)膠。

半導體光刻(ke)(ke)膠(jiao)根據對應波長(chang)可(ke)以分為紫(zi)外光刻(ke)(ke)膠(jiao)（300-450nm）、深紫(zi)外光刻(ke)(ke)膠(jiao)（160-280nm）、極紫(zi)外光刻(ke)(ke)膠(jiao)（EUV、13.5nm）、電子束(shu)光刻(ke)(ke)膠(jiao)、離子束(shu)光刻(ke)(ke)膠(jiao)、X射線光刻(ke)(ke)膠(jiao)。光刻(ke)(ke)膠(jiao)波長(chang)越(yue)短，加(jia)工分辨率(lv)越(yue)高。

二、光刻膠應用于哪些領域

光(guang)刻膠是一(yi)種常見(jian)的(de)材料，廣(guang)泛應用于(yu)半導(dao)體(ti)、光(guang)電子、微(wei)電子、生(sheng)(sheng)物醫學(xue)等領(ling)域(yu)。它的(de)主要(yao)作用是在微(wei)電子制造過程中(zhong)，用于(yu)制作微(wei)型電路板、光(guang)學(xue)元件、生(sheng)(sheng)物芯片等微(wei)型器(qi)件。

在半導體制造中，光刻膠被用于制作芯片的圖形化圖案。首先，將光刻膠涂在硅片表面，然后使用光刻機將光刻膠暴露在紫外線(xian)下，使其形成所需的圖案(an)。接著，通過化(hua)學腐(fu)蝕或離子(zi)注入等(deng)方法，將暴露出來的硅片(pian)(pian)進行(xing)加工，最終(zhong)形成芯片(pian)(pian)的電路(lu)結構。

在(zai)光(guang)(guang)(guang)電子領(ling)域(yu)，光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠被(bei)用于制作光(guang)(guang)(guang)學(xue)元件，如光(guang)(guang)(guang)柵、衍射光(guang)(guang)(guang)柵、光(guang)(guang)(guang)學(xue)波(bo)導等。通(tong)過將光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠涂在(zai)光(guang)(guang)(guang)學(xue)元件表面，然后使用光(guang)(guang)(guang)刻(ke)機進行暴露和加工，可(ke)以制作出高精度的光(guang)(guang)(guang)學(xue)元件，用于光(guang)(guang)(guang)通(tong)信(xin)、激光(guang)(guang)(guang)器(qi)(qi)、光(guang)(guang)(guang)學(xue)傳感(gan)器(qi)(qi)等領(ling)域(yu)。

在生(sheng)(sheng)物醫(yi)學領域，光(guang)刻膠被用(yong)于制作生(sheng)(sheng)物芯片(pian)(pian)。生(sheng)(sheng)物芯片(pian)(pian)是一種微(wei)(wei)型化(hua)的生(sheng)(sheng)物實(shi)驗平(ping)臺，可(ke)以用(yong)于分(fen)析、檢(jian)測、診斷(duan)等。通過(guo)將光(guang)刻膠涂在芯片(pian)(pian)表面，然后(hou)使用(yong)光(guang)刻機進(jin)行暴露和(he)加工，可(ke)以制作出微(wei)(wei)型通道、微(wei)(wei)型反應器等結構，用(yong)于生(sheng)(sheng)物實(shi)驗。

光刻膠在微電子、光電子、生物醫學等領域都有著廣泛的應用。它的高精度、高分辨率、可控性等特點，使得微型器件的制造更加精細化、高效化。隨著科技的不斷發展，光刻膠的(de)應(ying)用(yong)也將(jiang)不(bu)斷拓展，為(wei)人類帶來更多的(de)科技創新(xin)和發展。