一、靶材是什么材料

靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是(shi)高速荷能(neng)粒子轟擊(ji)的(de)目標材(cai)料，用于高能(neng)激(ji)(ji)光武器中(zhong)，不(bu)(bu)同功率密度、不(bu)(bu)同輸(shu)出波(bo)形、不(bu)(bu)同波(bo)長的(de)激(ji)(ji)光與不(bu)(bu)同的(de)靶材(cai)相互作用時，會(hui)產生不(bu)(bu)同的(de)殺傷(shang)破壞(huai)效(xiao)應。例如：蒸發(fa)磁控(kong)濺射鍍膜(mo)是(shi)加熱(re)蒸發(fa)鍍膜(mo)、鋁(lv)膜(mo)等。更換不(bu)(bu)同的(de)靶材(cai)（如鋁(lv)、銅、不(bu)(bu)銹(xiu)鋼、鈦(tai)、鎳靶等），即(ji)可得到(dao)不(bu)(bu)同的(de)膜(mo)系（如超(chao)硬、耐磨、防腐的(de)合(he)金(jin)膜(mo)等）。

該圖片由注冊用戶"天空之城"提供，版權聲明反饋

二、靶材的用途

1、用于顯示器上

靶材(cai)(cai)目前被普遍應(ying)用于(yu)平面顯(xian)示(shi)器(qi)（FPD)上。近年來，平面顯(xian)示(shi)器(qi)在(zai)市場(chang)上的應(ying)用率逐年增高，同時(shi)也帶動(dong)了ITO靶材(cai)(cai)的技術與市場(chang)需求。ITO靶材(cai)(cai)有兩種(zhong)，一種(zhong)是采(cai)(cai)用銦(yin)錫(xi)合(he)金靶材(cai)(cai)，另外一種(zhong)是采(cai)(cai)用納(na)米(mi)狀態的氧(yang)化銦(yin)和氧(yang)化錫(xi)粉混(hun)合(he)后燒結(jie)。

2、用于微電子領域

靶(ba)材(cai)也被應用于(yu)半導(dao)體(ti)產業，相對(dui)來說半導(dao)體(ti)產業對(dui)于(yu)靶(ba)材(cai)濺射薄(bo)膜的(de)(de)(de)品質(zhi)(zhi)要求(qiu)是比較(jiao)(jiao)苛刻(ke)的(de)(de)(de)。現在(zai)12英寸（300衄(nv)口）的(de)(de)(de)硅晶片也被制作出來，但是互連(lian)線的(de)(de)(de)寬度(du)卻(que)在(zai)減小(xiao)。目前硅片制造商對(dui)于(yu)靶(ba)材(cai)的(de)(de)(de)要求(qiu)都(dou)是大尺寸、高純度(du)、低偏析以及細晶粒等，對(dui)其品質(zhi)(zhi)要求(qiu)比較(jiao)(jiao)高，這就要求(qiu)靶(ba)材(cai)需要具(ju)有更好的(de)(de)(de)微觀結構。

3、用于存儲技術上

存儲技術行業對于靶材的(de)需(xu)求量(liang)(liang)很大，高密度、大容(rong)量(liang)(liang)硬盤的(de)發展(zhan)，離不開大量(liang)(liang)的(de)巨磁阻薄(bo)膜(mo)(mo)材料，CoF~Cu多(duo)層復合(he)膜(mo)(mo)是如今應用比較廣泛的(de)巨磁阻薄(bo)膜(mo)(mo)結構。磁光盤需(xu)要的(de)TbFeCo合(he)金(jin)靶材還在進(jin)一步發展(zhan)，用它制(zhi)造出來的(de)磁光盤有著(zhu)使用壽命長、存儲容(rong)量(liang)(liang)大以(yi)及可反復無接觸擦寫的(de)特(te)點。