一、濺射靶材是什么

濺射靶材是安(an)裝在真空鍍膜(mo)(mo)機(ji)上鍍膜(mo)(mo)用的，可鍍導電膜(mo)(mo)、絕緣膜(mo)(mo)、裝飾膜(mo)(mo)，超(chao)硬膜(mo)(mo)、潤滑膜(mo)(mo)、磁性膜(mo)(mo)等功能(neng)薄膜(mo)(mo)。

磁控(kong)濺(jian)(jian)射(she)(she)鍍(du)膜是一種新型的(de)(de)物理氣相鍍(du)膜方(fang)式(shi)，就(jiu)是用(yong)電(dian)子(zi)槍(qiang)系統把電(dian)子(zi)發射(she)(she)并聚焦在被(bei)鍍(du)的(de)(de)材(cai)(cai)料(liao)上，使其被(bei)濺(jian)(jian)射(she)(she)出來的(de)(de)原(yuan)(yuan)子(zi)遵循(xun)動量轉換原(yuan)(yuan)理以較高的(de)(de)動能(neng)脫離(li)材(cai)(cai)料(liao)飛向基(ji)片淀積成膜。這種被(bei)鍍(du)的(de)(de)材(cai)(cai)料(liao)就(jiu)叫濺(jian)(jian)射(she)(she)靶(ba)材(cai)(cai)。濺(jian)(jian)射(she)(she)靶(ba)材(cai)(cai)有金(jin)屬，合金(jin)，陶瓷化合物等。

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二、濺射靶材工作原理

濺(jian)射(she)靶材主(zhu)(zhu)要(yao)是由靶坯、背(bei)板等(deng)部分構成，靶坯屬(shu)于(yu)高(gao)(gao)速離子束(shu)流轟(hong)擊的(de)目(mu)標材料，是核心部分，在濺(jian)射(she)鍍膜的(de)過程中，靶坯被離子撞擊后，表面原子被濺(jian)射(she)飛散出來并沉(chen)積于(yu)基板上制(zhi)成電子薄(bo)膜。因為高(gao)(gao)純(chun)度金屬(shu)強度較低，可是濺(jian)射(she)靶材需要(yao)安裝在專用的(de)機(ji)臺內完成濺(jian)射(she)過程，機(ji)臺內部為高(gao)(gao)電壓(ya)、高(gao)(gao)真(zhen)空環境，所以(yi)超高(gao)(gao)純(chun)金屬(shu)的(de)濺(jian)射(she)靶坯需要(yao)與背(bei)板通過不同(tong)的(de)焊(han)接工藝進行(xing)接合，背(bei)板主(zhu)(zhu)要(yao)起到了固(gu)定濺(jian)射(she)靶材的(de)作用，以(yi)及良好(hao)的(de)導電、導熱性能(neng)。

三、濺射靶材的應用

濺射靶材主(zhu)要應用(yong)(yong)于電(dian)子及信息產業(ye)，如集成電(dian)路、信息存儲、液(ye)晶顯示屏、激光存儲器(qi)、電(dian)子控制(zhi)器(qi)件等；亦可應用(yong)(yong)于玻璃鍍(du)膜領域；還(huan)可以應用(yong)(yong)于耐(nai)磨材料、高(gao)溫耐(nai)蝕、高(gao)檔裝飾(shi)用(yong)(yong)品等行(xing)業(ye)。