一、光刻機是干什么用的

光刻機是用來制造芯(xin)片(pian)的。光刻(ke)機(ji)又(you)(you)被稱(cheng)為掩膜對準(zhun)曝光機(ji)，在芯(xin)片(pian)生產中用于(yu)光刻(ke)工藝，而光刻(ke)工藝又(you)(you)是生產流程中最關(guan)鍵(jian)的一步(bu)，所以光刻(ke)機(ji)又(you)(you)是芯(xin)片(pian)生產中不(bu)可缺少的設備(bei)。

光刻機(ji)決定(ding)了芯片(pian)的精密尺寸，設計(ji)(ji)師設計(ji)(ji)好(hao)芯片(pian)線路，再通過(guo)光刻機(ji)將(jiang)線路刻在芯片(pian)上，其(qi)尺度通常在微米級以上。

光刻機是芯(xin)片(pian)生產中最(zui)昂(ang)貴也是技術難(nan)度最(zui)大(da)的設備，因為其決(jue)定(ding)了一塊芯(xin)片(pian)的整體框(kuang)架與功能。

其(qi)實生產(chan)高精度(du)芯片并不難，只是生產(chan)速度(du)太慢，而光刻機能快速生產(chan)高精度(du)的芯片，所以很重要。

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二、光刻機的工作原理

利用(yong)光(guang)刻機發(fa)出的(de)(de)光(guang)通過具有(you)圖形(xing)的(de)(de)光(guang)罩對涂(tu)有(you)光(guang)刻膠的(de)(de)薄片(pian)曝光(guang)，光(guang)刻膠見光(guang)后會發(fa)生性質變化，從而(er)使光(guang)罩上得圖形(xing)復印到薄片(pian)上，從而(er)使薄片(pian)具有(you)電子(zi)線路(lu)圖的(de)(de)作用(yong)。這就是光(guang)刻的(de)(de)作用(yong)，類似照相機照相。照相機拍(pai)攝的(de)(de)照片(pian)是印在底片(pian)上，而(er)光(guang)刻刻的(de)(de)不是照片(pian)，而(er)是電路(lu)圖和其他電子(zi)元件。

簡單點來(lai)說，光(guang)(guang)刻(ke)(ke)機(ji)就(jiu)是放大的單反，光(guang)(guang)刻(ke)(ke)機(ji)就(jiu)是將(jiang)光(guang)(guang)罩上的設計好集成電路圖形通(tong)過光(guang)(guang)線的曝光(guang)(guang)印到光(guang)(guang)感材料上，形成圖形。

三、光刻機的性能指標

光刻機的主要性(xing)能指標有：支持基片(pian)的尺寸范圍，分辨率(lv)、對準(zhun)精度、曝光方(fang)式、光源波長、光強均勻性(xing)、生產效率(lv)等。

分(fen)辨率(lv)是對(dui)光刻工藝加工可(ke)以(yi)達到的(de)最細線(xian)條精(jing)度的(de)一種描述方(fang)式。光刻的(de)分(fen)辨率(lv)受受光源衍射的(de)限制，所以(yi)與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方(fang)面的(de)限制。

對(dui)準精度是在多(duo)層曝光時層間圖案(an)的定位(wei)精度。

曝光方(fang)式(shi)分為接觸接近式(shi)、投影(ying)式(shi)和(he)直(zhi)寫式(shi)。

曝光光源(yuan)波長分為紫(zi)外(wai)、深紫(zi)外(wai)和極紫(zi)外(wai)區(qu)域，光源(yuan)有汞燈，準分子激(ji)光器等。