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硅片清洗機工作原理是什么 硅片清洗機操作說明

本文章由注冊用戶 淺嘗不止— 上傳提供 2023-07-20 評論 0
摘要:半導體器件生產中硅片須經嚴格清洗,即使是微量污染也會導致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質,包括有機物和無機物。這些雜質有的以原子狀態或離子狀態,有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。接下來本文將簡單介紹硅片清洗機工作原理是什么以及硅片清洗機操作說明,一起到文中來看看吧!

一、硅片清洗機工作原理是什么

硅片清洗(xi)機(ji)是利用超聲(sheng)波(bo)清洗(xi)技術,在(zai)(zai)清洗(xi)過程中超聲(sheng)波(bo)頻(pin)率在(zai)(zai)合(he)理的范圍內往復掃(sao)動,帶動清洗(xi)液(ye)形成細微回流,使(shi)工件污垢在(zai)(zai)被超聲(sheng)剝離的同時迅速帶離工件表(biao)面,提高清洗(xi)效率。

具(ju)體的原理有以(yi)下:

1、真空脫氣,有效去除(chu)液體中氣體,且運用拋動功(gong)能,增(zeng)強超聲對工(gong)件表(biao)面油污(wu)和污(wu)垢的(de)清洗能力,縮短清洗時間。

2、洗籃轉動機構,重疊不可(ke)分(fen)拆的(de)零(ling)件或形狀復雜的(de)零(ling)件,也可(ke)做到均勻完(wan)整的(de)清洗。

3、減壓真(zhen)空系統,能吸(xi)出盲孔(kong)、縫(feng)隙及疊加零件(jian)之間(jian)的空氣,使超聲波(bo)在減壓的狀態下產生驚人(ren)的清(qing)洗效果。

4、真(zhen)空(kong)蒸汽清洗+真(zhen)空(kong)干燥系統,利用蒸汽洗凈做養護,完美實現清洗效果。

5、蒸汽清洗(xi)、干燥及清洗(xi)液加熱的全(quan)過(guo)程在(zai)減(jian)壓真空(kong)中(zhong)進行,更(geng)有效地確保了安全(quan)性。

6、防爆配件及簡潔(jie)加熱系(xi)統(tong),進(jin)一步提高安全度。

該圖片由注冊用戶"淺嘗不止—"提供,版權聲明反饋

二、硅片清洗機操作說明

1、欲清洗工(gong)件放入料(liao)框內專用固定夾內,由(you)人(ren)工(gong)將(jiang)料(liao)框放上(shang)入料(liao)口(kou),等工(gong)位(wei)機械(xie)手(shou)自動將(jiang)料(liao)框送入清洗機本(ben)體,上(shang)下提升機構(gou)依照PLC指定的程(cheng)序將(jiang)料(liao)框搬送到相(xiang)應高度(du)位(wei)置(zhi)。

2、完(wan)成對工(gong)(gong)件的清(qing)洗(xi)、噴淋(lin)、漂(piao)洗(xi)、慢提拉脫水和熱風干燥后(hou)、送至清(qing)洗(xi)機出(chu)(chu)口(kou),運送到卸料(liao)臺出(chu)(chu)料(liao),等工(gong)(gong)位機械手由氣缸橫(heng)向驅動,直線滑軌導(dao)向。

3、上下提(ti)(ti)升由(you)馬達驅動,直線導軸導向(xiang),慢提(ti)(ti)拉(la)提(ti)(ti)升機構由(you)變頻(pin)馬達驅動,直線滑塊導向(xiang),上下料由(you)上下提(ti)(ti)升機構獨立完成,采用觸(chu)摸(mo)屏操作系統(tong),有手動和自動切換開關(guan)及有關(guan)操作按鈕,能對整個運行(xing)過程實行(xing)控(kong)制。

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