一、硅片清洗設備維修方法有哪些
1、換能器損壞：
分(fen)析：可能硅片(pian)清洗設備因(yin)長(chang)時間(jian)處于開(kai)機使用狀(zhuang)態，溫(wen)度(du)會逐漸(jian)上(shang)升導致膠(jiao)體融(rong)化(hua)換(huan)能器脫落或換(huan)能器陶(tao)瓷(ci)部分(fen)斷裂。
檢測和解決：用搖表測量換(huan)(huan)能器的(de)(de)絕緣(yuan)(yuan)強(qiang)度，絕緣(yuan)(yuan)強(qiang)度在(zai)200MΩ以下已無法使用，須換(huan)(huan)新的(de)(de)換(huan)(huan)能器。
換(huan)能(neng)器的(de)內部陶瓷也會由于長(chang)期使用(yong)出現(xian)斷(duan)裂，使其(qi)不能(neng)正常工作。
2、硅片清洗設備的保險損壞：
在開機后(hou)如發現(xian)無(wu)電源顯示(shi)，無(wu)動作，首先(xian)要看電源座內保險是否損(sun)壞。
分析(xi)：有(you)(you)可能(neng)是用戶接(jie)地(di)線(xian)與火(huo)線(xian)或零線(xian)混用，并沒(mei)有(you)(you)接(jie)地(di)（本機(ji)(ji)地(di)線(xian)是與機(ji)(ji)器外殼相連接(jie)），還有(you)(you)可能(neng)是硅片清洗設備(bei)短路，元器件(jian)老化出現短路現象，導致保險損壞。
檢測(ce)和解決：拿出保(bao)險觀看，有無斷(duan)裂，用萬用表通斷(duan)檔測(ce)量(liang)是否斷(duan)開，更換新(xin)器件(jian)。
3、硅片清洗設備的功率管損壞：
分析(xi)：主板上的功率管會因(yin)為(wei)超聲波清洗機長(chang)時(shi)間不間斷使(shi)(shi)用或清洗液體太少長(chang)時(shi)間使(shi)(shi)用，使(shi)(shi)功率管出現短路(lu)情(qing)況。
檢測和解決：當功(gong)率管在主板上連接(jie)式，用萬用表(biao)測量功(gong)率管兩側管腳(jiao)(jiao)的(de)阻值，正常(chang)情況下(xia)應在22Ω左右。拿下(xia)功(gong)率管后(hou)（與主板斷(duan)開連接(jie)），測量其各個管腳(jiao)(jiao)間應是不通的(de)。
二、硅片清洗設備怎么保養
硅片清洗的重要性想必大家是很清楚的，而清洗后硅片表面的各種性能在一定程度上又由清洗設備本身決定，因此，對硅片清洗設備的日常(chang)監控(kong)和(he)維護就尤為重要。
1、進(jin)(jin)行(xing)(xing)日常(chang)(chang)的生產(chan)時，首先需(xu)準備少量潔凈的硅片（如10片），每天在進(jin)(jin)行(xing)(xing)正常(chang)(chang)的硅片清洗前，對該(gai)10個桂片進(jin)(jin)行(xing)(xing)清洗，且在清洗前后(hou)對該(gai)硅片進(jin)(jin)行(xing)(xing)表面(mian)顆粒(li)的檢測(ce)，然后(hou)對測(ce)試結(jie)果進(jin)(jin)行(xing)(xing)分析。
如(ru)果發(fa)現清(qing)洗后(hou)硅(gui)片表(biao)面(mian)的(de)顆粒數(shu)跟金(jin)屬(shu)沾污較清(qing)洗前減少(shao)或無明(ming)顯變化，則表(biao)面(mian)清(qing)洗設備工(gong)作(zuo)正(zheng)常(chang)(chang)，可(ke)以(yi)進(jin)行正(zheng)常(chang)(chang)的(de)硅(gui)片清(qing)洗；如(ru)果發(fa)現清(qing)洗后(hou)硅(gui)片表(biao)面(mian)顆粒數(shu)跟金(jin)屬(shu)沾污較清(qing)洗前明(ming)顯增加，則表(biao)明(ming)清(qing)洗機工(gong)作(zuo)異常(chang)(chang)，需進(jin)行相(xiang)應的(de)維護(hu)。
針對此(ci)工(gong)作也可(ke)以根據生產(chan)的具體情況(kuang)對其即(ji)進(jin)行SPC控制，即(ji)：顆粒(li)去除數(shu)(shu)=清洗后顆粒(li)數(shu)(shu)-清洗前顆粒(li)數(shu)(shu)
2、硅(gui)片(pian)(pian)在(zai)清洗過程中，如(ru)(ru)發現(xian)硅(gui)片(pian)(pian)表面(mian)顆粒跟金屬沾污超標，則需進行如(ru)(ru)下處理：
（1）將(jiang)各槽(cao)中(zhong)原液排(pai)干(gan)，用DI水將(jiang)槽(cao)子沖洗(xi)一(yi)次(ci)，然(ran)后將(jiang)槽(cao)中(zhong)水排(pai)盡。
（2）加入(ru)少許(xu)（lgallon）DI水(shui)，然后加入(ru)lgal-lonH2O2，再加入(ru)少許(xu)DI水(shui)，然后加工入(ru)lgallonNH4OH，再加DI水(shui)至槽滿。如果是工藝槽，則讓混(hun)合液循環2h，否則靜置2h。
（3）將槽中(zhong)液(ye)排(pai)盡，用DI水再次(ci)沖洗槽子一次(ci)，將槽液(ye)排(pai)盡。
（4）重新對(dui)清洗(xi)設備進行測試。
